1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國(guó)創(chuàng)立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國(guó)考夫曼離子源歷經(jīng) 30 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 (離子槍) 中國(guó)總代理.

KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列, 柵極燈絲型離子源, 通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生電子, 提供低電流高能量離子束. 離子束可選聚焦,平行, 散設(shè)三種方式, KDC 系列離子源適用于離子濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC, 輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD, 表面改性, 激活 SM, 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD, 離子蝕刻 IBE 等.

離子源通過(guò)加熱燈絲產(chǎn)生離子束,低濃度高能量寬束型離子源
利用柵極控制離子束的濃度和方向, 離子束可選集中,平行,散設(shè)