Raith的ionLINE (TM)系統(tǒng)是將聚焦離子束和光刻系統(tǒng)完美結(jié)合的納米加工系統(tǒng)。

它結(jié)合了不同的聚焦離子束技術(shù)，穩(wěn)定性高，全自動(dòng)控制，分辨率高，重復(fù)性高。

ionLINE 有著Raith研發(fā)的NanoFIB-TWO納米加工離子槍?zhuān)约皬腞aith電子束曝光機(jī)系統(tǒng)里移植過(guò)來(lái)經(jīng)過(guò)時(shí)間考驗(yàn)的激光干涉工作臺(tái)和專(zhuān)業(yè)的曝光軟件。

離子束曝光系統(tǒng)用很多方法手段，以不同的工藝步驟完善了納米加工工藝：離子束曝光系統(tǒng)不再局限于基于光刻膠的曝光，更多地使用直接的圖型化技術(shù)，如Milling、刻蝕或沉積，以及直接掩模包括硬掩模，注入或功能化。

ionLiNE真正的離子束光刻機(jī)

高精密和穩(wěn)定的100mm激光干涉工作臺(tái)，非破壞性的導(dǎo)航和大面積圖型化

專(zhuān)利技術(shù)的NanoFIB-TWO離子槍?zhuān)直媛矢?，束斑非常有特點(diǎn)（束拖尾很小），精確的束偏轉(zhuǎn)

久經(jīng)考驗(yàn)的曝光控制軟件，可精確控制離子束

ionLiNE發(fā)展高效的工藝

用直接研磨或樣品功能化來(lái)減少納米加工工藝的步驟

快速工藝開(kāi)發(fā)，用實(shí)時(shí)工藝監(jiān)測(cè)和三維載片臺(tái)在線檢查和優(yōu)化工藝

可實(shí)現(xiàn)有挑戰(zhàn)性的材料和先進(jìn)的原型設(shè)計(jì)的工藝

高穩(wěn)定性使真正器件的全自動(dòng)批量加工工藝成為可能

適用各類(lèi)技術(shù)改成——靈活的技術(shù)手段

FLEXposure圖型化模式：提供了非常適宜的離子束技術(shù)和圖型化策略

專(zhuān)業(yè)的設(shè)計(jì)和劑量控制支持二維薄層圖型化或三維納米加工

無(wú)需光刻膠直接圖型化的能力可適用于三維/不平整樣片或懸浮樣片上的各種應(yīng)用需求

ionLiNE除了可配備標(biāo)準(zhǔn)部件，如進(jìn)料室、光學(xué)探測(cè)器、實(shí)時(shí)工藝監(jiān)測(cè)和三維載片臺(tái)外，還可增加額外的功能：

五通道或單通道氣體注入系統(tǒng)，適用材料種類(lèi)多，可實(shí)現(xiàn)定位沉積和氣體輔助刻蝕

笛卡爾納米操縱，可用于機(jī)械操縱，電學(xué)探針或信號(hào)測(cè)量

自動(dòng)高度傳感器，可實(shí)現(xiàn)大面積聚焦控制

固定束移動(dòng)工作臺(tái)FBMS和調(diào)制束移動(dòng)工作臺(tái)MBMS曝光模式，無(wú)拼接誤差地處理長(zhǎng)路徑圖形和周期性圖型。

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注：對(duì)于醫(yī)療器械類(lèi)產(chǎn)品，請(qǐng)先查證核實(shí)企業(yè)經(jīng)營(yíng)資質(zhì)和醫(yī)療器械產(chǎn)品注冊(cè)證情況