產(chǎn)品簡(jiǎn)介

NILT主要產(chǎn)品包括:

- 熱壓和紫外壓印服務(wù)

- 納米壓印模版

- 納米壓印設(shè)備

熱壓和紫外壓印服務(wù)

高分子聚合物中間層壓印技術(shù)可以實(shí)現(xiàn)納米壓印/熱壓印非平面化的壓印，同時(shí)高分子聚合物中間層的熱塑彈性材料實(shí)現(xiàn)納米結(jié)構(gòu)的轉(zhuǎn)移和復(fù)制?？杀Ｗo(hù)昂貴的母板因多次轉(zhuǎn)印而損壞，同時(shí)用于母板的復(fù)制。

材料方面

應(yīng)用方面

Silicon NIL 硅納米壓印模板

硅納米壓印光刻用于熱納米壓印光刻或作為母板的聚合物生產(chǎn)。 由客戶提供的一項(xiàng)決議規(guī)定下任何圖案分辨率達(dá)20nm納米和寬比可達(dá)1:10。

微透鏡陣列的定制模板

模板與凹形或凸形的微透鏡陣列用于通過(guò)熱壓印或注塑生產(chǎn)使用。

熔融石英NIL 壓印模板

熔融二氧化硅納米壓印光刻模板用于紫外納米壓印光刻技術(shù)。

NILT提供熔融石英模板，由客戶指定的任何模式下低于30nm和寬比可達(dá)1:5。

微流體和LOC墊片

通過(guò)熱壓印或注塑定制墊片的鎳生產(chǎn)微流體和實(shí)驗(yàn)室級(jí)芯片(LOC)系統(tǒng)。

Nickel Shims鎳墊片

鎳墊片被用于熱壓印和輥到輥?zhàn)釉O(shè)置。 NILT提供鎳與郵票大小達(dá)600mm x 600mm，厚度降低到50μm。鎳墊片可以用圖形化的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)。

PDMS NIL 壓印模板

PDMS模板是由硅或熔融石英大師鑄造。 NILT提供的PDMS，分辨率降低到100 nm，具有高寬比可達(dá)1：2。

聚合物NIL 壓印模板

聚合物納米壓印光刻是由硅或石英玻璃制成的母板，典型地由熱納米壓印光刻工藝。 NILT任何聚合物并與客戶指定的任何模式提供聚合物模板。最小i 分辨率I50nm，縱橫比可以高達(dá)1:3。

65-壓印模板

由熔融二氧化硅和用于紫外線步進(jìn) - 重復(fù)過(guò)程。 分辨率下降到50 nm，可定任何模式，縱橫比高達(dá)1：5。

納米壓印模版Microlens Array 微透鏡陣列標(biāo)準(zhǔn)印記含有緊密堆積排列為蜂窩形狀與各個(gè)透鏡之間三維交叉點(diǎn)的微透鏡的結(jié)構(gòu)

直線和圓弧工程風(fēng)口

專為一組多功能設(shè)計(jì)擴(kuò)散器的研發(fā)工作，以及對(duì)產(chǎn)品和工藝的開(kāi)發(fā)。

線柵型偏振Wire Grid Polarizer理想的生產(chǎn)線柵偏振器的通過(guò)納米壓印光刻，用于測(cè)試目的。郵票的特點(diǎn)為 12 mm x 12 mm，50 nm的線條和空間的大型活動(dòng)區(qū)域。光柵光柵標(biāo)準(zhǔn)壓印成本低， 可印鏈路和支柱光柵圖案，客戶可根據(jù)不同規(guī)格來(lái)選擇。防反光Anti-Reflective是大面積和高性價(jià)比的功能標(biāo)準(zhǔn)郵票鎳具有漸變折射率分布，并與不斷變化的有效折射率。多點(diǎn)模式Multi-Pattern多模式標(biāo)準(zhǔn)壓印是最佳的納米壓印工藝試驗(yàn)NIL設(shè)備和測(cè)試。本標(biāo)準(zhǔn)郵票帶有線寬下降到50nm。亞微米Sub-Micro標(biāo)準(zhǔn)壓印是最佳的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測(cè)試和工藝開(kāi)發(fā)。壓印包含4種不同尺寸和4種不同的模式。大面積支柱型壓印大面積的支柱標(biāo)準(zhǔn)郵票是在硅谷高品質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)的印章與光子晶體和防反射結(jié)構(gòu)的大面積圖案。它有4個(gè)區(qū)域，每次1cm x 1cm，方形陣列的支柱。Micro Test方形結(jié)構(gòu)陣列500nm非常適合納米壓印光刻技術(shù)和熱壓領(lǐng)域內(nèi)工藝試驗(yàn)。壓印的特點(diǎn)是具有3，5，10和20微米大小的方形石柱/孔陣列微型標(biāo)準(zhǔn)壓印是最佳的內(nèi)部納米壓印光刻技術(shù)和熱壓測(cè)試和工藝開(kāi)發(fā)。印模含有3種不同尺寸3個(gè)不同的圖案。

65-Stamps線寬至100nm.微型注射針頭結(jié)構(gòu)The micro-needle standard stamp 微針標(biāo)準(zhǔn)戳記包含的微針的逆結(jié)構(gòu) - 即微針形孔。微針標(biāo)準(zhǔn)戳記可用于生產(chǎn)微針或者通過(guò)熱壓印或鑄造。Diffraction Grating衍射光柵光柵的間距在這兩種情況下為500nm和光柵的平均深度為250nm。

納米壓印設(shè)備

 

CNI - Thermal NIL Tool

EZI - UV NIL Tool

NIL Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

NILT CNI 實(shí)驗(yàn)用納米熱壓印機(jī)是專為實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)和開(kāi)發(fā)的簡(jiǎn)單易用、性能穩(wěn)定的研發(fā)型設(shè)備，用戶可以通過(guò)CNI設(shè)備高效、低成本地實(shí)現(xiàn)高精度的納米熱壓工藝，許多知名的研發(fā)機(jī)構(gòu)均購(gòu)買了CNI的設(shè)備。NILT CNI熱壓設(shè)備，占地小、操作簡(jiǎn)便，可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的圖形復(fù)制，可實(shí)現(xiàn)納米熱壓設(shè)備的一切功能，而無(wú)需昂貴的工藝設(shè)備。

典型應(yīng)用：

在硅片上制作納米級(jí)光柵

壓印易碎的材料(例如III-V族材料)

微結(jié)構(gòu)加工

制作壓印印章

保護(hù)母版的適用壽命

熱壓高深寬比結(jié)構(gòu)圖形

主要性能：

可加工4英寸以下任意尺寸襯底

擁有專利技術(shù)的卡盤設(shè)計(jì)，可保證快速升溫、降溫并保持良好的溫度均勻性。

EZImprinting（EZI）納米壓印技術(shù)平臺(tái)（NTP）是一個(gè)獨(dú)立的納米壓印站包括自動(dòng)釋放?功能的納米壓印模塊和自動(dòng)印記控制器。

PLC屏幕程序控制

客戶可自由設(shè)置工藝參數(shù)

晶圓與模板由真空卡盤固定

兼容傳統(tǒng)的UV固化壓印膠工藝

4“晶圓，壓印區(qū)域?yàn)?”

壓印范圍：0 - 25PSI (可升級(jí)到100PSI)

壓印模板尺寸： 5 x 0.090"

產(chǎn)量預(yù)計(jì)： 5分鐘/片

為了支援納米壓印用戶，節(jié)省了寶貴的時(shí)間在實(shí)驗(yàn)室上的印記參數(shù)的優(yōu)化，NILT提供Simprint仿真軟件。 

該軟件提供了殘積層厚度 (RLT)的變化模擬，并協(xié)助確定最佳工藝參數(shù)。

 

主要性能：

- 殘留層厚度模擬

- Fast full-chip 模擬

- 支援UV-NIL及熱壓NIL

- 模擬粗糙的基材的影響

Simprint Core v2.1 - 仿真軟件

產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)