激光刻蝕機(jī) 激光刻蝕機(jī)實(shí)際上狹義理解就是光刻腐蝕，先通過光刻將光刻膠進(jìn)行光刻曝光處理，然后通過其它方式實(shí)現(xiàn)腐蝕處理掉所需除去的部分。廣義上來講，刻蝕成了通過溶液、反應(yīng)離子或其它機(jī)械方式來剝離、去除材料的一種統(tǒng)稱，成為微加工制造的一種普適叫法。刻蝕最簡(jiǎn)單最常用分類是：干法刻蝕和濕法刻蝕。它們的區(qū)別就在于濕法使用溶劑或溶液來進(jìn)行刻蝕。 精品推薦
品牌： 美國(guó)Tera print 型號(hào)： M 產(chǎn)地：加拿大 供應(yīng)商：北京培科創(chuàng)新技術(shù)有限公司

聚合物筆無掩模光刻納米制造系統(tǒng)（polymer pen lithography）聚合物筆納米無掩模光刻制造系統(tǒng)PPL, 使用可達(dá)160000筆尖的陣列，采用蘸筆光刻DPN的方式，將待沉積的材料（墨水）浸蘸在筆尖陣列上，筆尖可控的與基底表面接觸，從而在基底表面批量成型所需圖案，加工納米微米圖案無需光掩膜，且在平方厘米范圍內(nèi)達(dá)到200納米以下的分辨率，可應(yīng)用于納米粒子合成，蛋白陣列，單細(xì)胞排布，納米電路構(gòu)造、生物芯片、化學(xué)檢測(cè)、微尺度催化反應(yīng)、分子馬達(dá)等領(lǐng)域。此設(shè)備在國(guó)際上屬于首個(gè)基于聚合物筆光刻(PPL)技術(shù)的納米制造系統(tǒng)，PPL技術(shù)是美國(guó)Tera-print公司獨(dú)有的技術(shù)。

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