輝光放電光譜儀 輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等。輝光放電光譜儀主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單、便于維護(hù)，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。 精品推薦
品牌： 法國HORIBA JY 型號： Profiler 2 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：北京國嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司

GD-Profiler 2是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析?？煞治?0多種元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析幾納米到200微米的深度，深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外，還采用了多項(xiàng)專利技術(shù)，如高動態(tài)檢測器（HDD）可測試ppm-100%的濃度范圍，專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤、有機(jī)鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。技術(shù)參數(shù)：1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短，表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率和靈敏度。5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。更多指標(biāo)參數(shù)請?jiān)L問HORIBA官網(wǎng)

品牌： 法國HORIBA JY 型號： Profiler HR 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：北京國嘉恒業(yè)科學(xué)儀器有限公司

GD-Profiler HR擁有獨(dú)一無二的超高光譜分辨率，為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。技術(shù)參數(shù)：1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率GD敏度。5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大的提高儀器的靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米，光譜分辨率可達(dá)14pm，最多可同時分析60種元素。11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀，最高光譜分辨率達(dá)9pm。更多指標(biāo)參數(shù)請?jiān)L問HORIBA官網(wǎng)

品牌： 日本堀場 型號： GD-Profiler HR 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：天津東方科捷科技有限公司

儀器簡介： GD-Profiler HR擁有獨(dú)一無二的超高光譜分辨率，為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。 詳細(xì)指標(biāo)參數(shù)可訪問http://www.horiba.com/cn/scientific/products技術(shù)參數(shù)： 1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。 2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。 3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm~800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率GD敏度。 5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5 x 1010。 6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。 7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。 8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大的提高儀器的靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。 9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。 10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米，光譜分辨率可達(dá)14pm，最多可同時分析60種元素。 11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀，最高光譜分辨率達(dá)9pm。

品牌： 法國HORIBA JY 型號： GD-Profiler 2 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：天津東方科捷科技有限公司

儀器簡介： GD-Profiler 2是一款可進(jìn)行超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體（和/或）非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析。可分析70多種元素，其中包括C、H、O、N和Cl。一次測試可輕松獲取鍍層元素深度分布、鍍層厚度、鍍層均一性及表面/界面等信息。 GD-Profiler 2可分析幾納米到150微米的深度，深度分辨率小于1納米。GD-Profiler 2采用了脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。此外，還采用了多項(xiàng)專利技術(shù)，如高動態(tài)檢測器（HDD）可測試ppm-100%的濃度范圍，專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。主要應(yīng)用領(lǐng)域包括鍍鋅鋼板、彩涂板、新型半導(dǎo)體材料、LED晶片、硬盤、有機(jī)鍍層、鋰電池、玻璃、陶瓷等等。 詳細(xì)指標(biāo)參數(shù)可訪問：http://www.horiba.com/cn/scientific/products技術(shù)參數(shù)： 1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短，表面信息無任何失真。 2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。 3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm~800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。 4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率和靈敏度。 5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5 x 1010。 6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。 7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。 8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。 9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。

品牌： 日本堀場 型號： Profiler 2 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：廈門通創(chuàng)檢測技術(shù)有限公司

解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)Profiler 2輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段，可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息，從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽極、光學(xué)玻璃、核材料等。GD-Profiler 2作為超快鍍層分析的理想工具，非常適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析，操作簡單、便于維護(hù)，是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。 使用脈沖式射頻輝光源，可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。 采用多項(xiàng)專利技術(shù)，如高動態(tài)檢測器（HDD），可測試ppm-100%的濃度范圍，專利Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。 分析速度快（2-10nm/s）技術(shù)參數(shù)：1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短，表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率和靈敏度。5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大地提高儀器靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。儀器原理：輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣，當(dāng)施加在放電兩極的電壓達(dá)到一定值，超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電，放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下，正電荷離子加速轟擊到（陰極）樣品表面，產(chǎn)生陰極濺射。在放電區(qū)域內(nèi)，濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。更多指標(biāo)參數(shù)請?jiān)L問HORIBA官網(wǎng)：www.horiba.com/cn/scientific

品牌： 日本堀場 型號： Profiler HR 產(chǎn)地：法國 供應(yīng)商：廈門通創(chuàng)檢測技術(shù)有限公司

GD-Profiler HR擁有獨(dú)一無二的超高光譜分辨率，為解決復(fù)雜基體中的疑難問題提供了適宜、便利的方法。技術(shù)參數(shù)：1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑極為平坦、等離子體穩(wěn)定時間極短、表面信息無任何失真。2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜，也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。3、Polyscan多道（同時）光譜儀可全譜覆蓋，光譜范圍從110nm-800nm，可測試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有最大的光通量，因而擁有卓越的光效率GD敏度。5、高動態(tài)檢測器（HDD）可快速、高靈敏地檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。7、功能強(qiáng)大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。8、HORIBA獨(dú)有的單色儀（選配）可極大的提高儀器的靈活性，可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試，稱為n+1。9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。10、GD-Profiler HR多色儀焦距為1米，光譜分辨率可達(dá)14pm，最多可同時分析58種元素。11、GD-Profiler HR可選配焦距為1米的單色儀，最高光譜分辨率達(dá)9pm。更多指標(biāo)參數(shù)請?jiān)L問HORIBA官網(wǎng)注：具體價格、配置請咨詢當(dāng)?shù)劁N售工程師

品牌： 德國斯派克 型號： SPECTRO GDA750 產(chǎn)地：德國 供應(yīng)商：德國斯派克分析儀器公司

在金屬分析領(lǐng)域中，輝光放電分析是濃度分析和表面分析最理想的手段。表面處理工藝過程，如表面滲碳硬化或滲碳熱處理等，都可以通過分析被處理材料的表面和近表層區(qū)域?qū)崿F(xiàn)質(zhì)量控制。采用濃度分布分析功能可以精確地測量涂（鍍）層厚度及化學(xué)成分。 對于傳統(tǒng)的分析方法不能解決的材料分析問題，輝光放電光譜技術(shù)可以作為優(yōu)先選用的方法。采用可選的射頻光源（GDA750輝光放電光譜儀）可以分析非導(dǎo)體材料和涂層，如玻璃，陶瓷，釉質(zhì)和油漆涂層。 GDA750可以配備60個以上的分析通道，并且能充分地滿足高分辨率和高精度的分析要求。涂（鍍）層的深度可測量至200μm。表面分析和獲得的分辨率達(dá)1個原子層。分析軟件具有強(qiáng)大功能并且靈活易用；化學(xué)成分可以與其他特性，如被分析區(qū)域中的密度和質(zhì)量分布同時測定。 通過比較涂（鍍）層工藝過程（CVD，PVD）前后的表面特性，確保生產(chǎn)工藝過程最佳化和最大程度地避免廢品浪費(fèi)。GDA750也可用于塊狀樣品的分析（如金屬合金的化學(xué)成分），為復(fù)雜基體材料的分析提供具有良好線性的工作曲線。 采用可選的射頻輝光放電光源，GDA750可用于分析非導(dǎo)電性材料，如陶瓷，玻璃和油漆涂層。主要特點(diǎn)：1.涂（鍍）層材料和均相材料化學(xué)成分的分析，痕量和微量合金元素的檢測和測量2.濃度分布測定和表層測量數(shù)據(jù)的定性/定量評價3.測定被分析表面層內(nèi)部的相/相比4.軟件基于Windows 2000環(huán)境，日常分析功能采用易用的軟件界面，使用戶能很快地熟悉儀器的使用5.具有許多適于用戶的軟件功能選項(xiàng)，如顯示輸出、數(shù)據(jù)傳輸和數(shù)據(jù)格式

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