鋁的光學復合鍍層和氧化膜厚度的金相顯微鏡

  光學復合材料顯然不能用與微粒彌散復合材料相同的沉積
方法制取。這是因為前者要求彌散相的尺寸小于光線的波長。
幾乎不可能使這種微粒保持滿意的懸浮狀態(tài)。

于是這類復合材料采用另一種方法進行沉積，即微粒在電極上
原位形成。

  鋁的光學復合鍍層是用另一種稱為鋁電解染色的工藝制備。
這種工藝是在硫酸中陽極氧化，然后在磷酸中陽極氧化，最后在硫
酸鎳或硫酸亞錫或任何其他適當金屬鹽溶液中，以陽極氧化的鋁
作為電極之一進行直流電解。根據(jù)電壓、磷酸陽極氧化的持續(xù)時間
和直流電解時間，鋁可染上色澤。文獻中報道的各種工藝基本上都
是運用上述工序，其差別在干所使用的電解液濃度和操作條件。

  光學復合材料在工程上的最重要的用途無疑是用作太陽能集
熱管的選擇吸收鍍層。太陽能的大部分能量是在0.1-2μm光譜
范圍內(nèi)。選擇吸收鍍層對于0.2-2μm范圍必須是理想的吸收體，
而對于波長大于3μm是理想的反射體。黑鉻和黑鎳接近于滿足這
一要求。但黑鎳的抗蝕性差，而黑鉻的抗蝕性良好，因而后者廣泛
用作選擇吸收鍍層。

  盡管電解染黑的鋁曾經(jīng)研究過，擬用作太陽能選擇吸收鍍層，
但由于其具有高發(fā)射率而未能獲得實際應用。電解染色鍍層已經(jīng)
廣泛用于彩色裝飾。

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