? ? 為推進(jìn)中國石墨烯等碳納米材料的研究和產(chǎn)業(yè)發(fā)展，2016石墨烯高峰論壇將于4月14日在清華大學(xué)深圳研究生院舉行。

????本次論壇將繼續(xù)以石墨烯基納米碳材料的制備器件、工業(yè)化應(yīng)用開發(fā)等為主題，多個(gè)國家和地區(qū)的知名學(xué)者和產(chǎn)業(yè)界人士，從學(xué)術(shù)和產(chǎn)業(yè)化視角探討石墨烯及其他二維材料的研究進(jìn)展和產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀，為國內(nèi)外杰出科學(xué)家與企業(yè)家搭建一個(gè)交流與合作的平臺(tái)。

巨納集團(tuán)SUNANO?GROUP也將出席本次論壇，巨納作為我國首個(gè)石墨烯國家標(biāo)準(zhǔn)的第一起草單位和組長單位，除了與國內(nèi)外專家學(xué)者交流之外，還會(huì)為大家介紹全球最 的多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD。如果您正從事相關(guān)的工作，歡迎到現(xiàn)場與我們交流。

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多密度等離子體CVD系統(tǒng)-NEXTCVD

SUNANO多功能寬密度等離子體CVD結(jié)合了電感耦合和電容耦合輝光放電的優(yōu)點(diǎn)，可在寬密度工藝范圍（109-1013?cm-3)實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的等離子體輔助CVD，具有優(yōu)良的材料處理性能和廣泛的應(yīng)用范圍，是目前全球功能最強(qiáng)大的等離子體CVD系統(tǒng)。

???????主要特點(diǎn)?

l?主要用于石墨烯表面層數(shù)減薄、刻蝕、修飾、改性

l?多種工作氣體下產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體輝光放電：?

l?氬氣、氫氣、氮?dú)狻⒀鯕?、硅烷、硼烷、磷烷、鍺烷、甲烷、氨氣、六氟化???硫、四氟化碳、二氧化碳等等。

l?等離子體密度可調(diào)，變化范圍大（109-1013?cm-3）

l?可與磁控濺射同時(shí)工作形成共沉積（最多可與四個(gè)磁控濺射靶材形成等離子?體輔助沉積），因而可沉積多種多樣的化合物薄膜?

廣泛的應(yīng)用范圍?

l?光伏行業(yè)（氮化硅/非晶硅/微晶硅/等離子體織構(gòu)與刻蝕）

l?新型二維材料（石墨烯/二硫化鉬等的表面改性及制備）

l?半導(dǎo)體工藝（刻蝕工藝/氮化硅與二氧化硅工藝等）

l?納米材料的生長與納米形貌的刻蝕構(gòu)造?

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熱烈歡迎世界各界人士蒞臨巨納集團(tuán)展臺(tái)，溝通交流，共商合作大業(yè)！