拋光實際操作的關鍵是要想方設法獲得較大的拋光速率，便于盡早去除磨光時造成的損傷層。另外還要使拋光損傷層不容易危害最后觀查到的機構，即不容易導致假機構。這兩個規(guī)定是矛盾的。前面一種規(guī)定應用較粗的耐磨材料，以確保有很大的拋光速率來除去磨光的損傷層，但拋光損傷層也較深；后面一種規(guī)定應用較細的原材料，使拋光損傷層偏淺，但拋光速率低。  處理這一矛盾的方法便是把拋光分成兩個階段開展。粗拋，目地是除去磨光損傷層，這一環(huán)節(jié)應具備較大的拋光速率，粗拋產生的表面損傷是主次的考慮到，但是也理應盡量??；次之是精拋(或稱終拋)，其目地是除去粗拋造成的表面損傷，使拋光損傷減到最少。  拋光時，試樣壓面與拋光盤應肯定平行面并勻稱地擠壓在拋光盤上，留意避免試樣飛出去和因壓力大而造成新劃痕。另外還應使試樣勻速轉動并沿輪盤半經方位往返挪動，以防止拋光紡織物部分損壞太快在拋光全過程時要持續(xù)加上硅微粉混液，使拋光紡織物維持一定環(huán)境濕度。環(huán)境濕度太交流會變弱拋光的劃痕功效，使試樣較硬相展現浮凸和鋼中非金屬材料參雜物及生鐵中高純石墨相造成 曳尾 狀況；環(huán)境濕度太鐘頭，因為摩擦生熱會使試樣提溫，潤化功效減少，壓面無光澤，乃至發(fā)生黑色斑，輕鋁合金則會拋傷表層。