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飛納電鏡原先拍檔——1060 水分子切削涂層星象

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放大字體  縮小字體    發(fā)布日期:2021-07-23  來源:儀器網(wǎng)  作者:Mr liao  瀏覽次數(shù):58
核心提示:離子研磨拋光儀是一臺高質(zhì)量的 sem 樣品制備臺式精密儀器,滿足幾乎所有應(yīng)用材料的制備。離子研磨拋光儀是通過物理科學(xué)技術(shù)來加強(qiáng)樣品表面特性。使用的是惰性氣體中具有代表性的氬氣,通過加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內(nèi),通過這種動量

離子研磨拋光儀是一臺高質(zhì)量的 sem 樣品制備臺式精密儀器,滿足幾乎所有應(yīng)用材料的制備。離子研磨拋光儀是通過物理科學(xué)技術(shù)來加強(qiáng)樣品表面特性。使用的是惰性氣體中具有代表性的氬氣,通過加速電壓使其電離并撞擊樣品表面。在控制的范圍內(nèi),通過這種動量轉(zhuǎn)換的方式,氬離子去撞擊樣品表面從而達(dá)到無應(yīng)力損傷的 sem 觀察樣品。

1060 ion milling 臺式離子研磨拋光儀

先進(jìn)的樣品制備技術(shù)

如今 sem 在快速研究和分析高端材料結(jié)構(gòu)和性能方面被認(rèn)為是一種非常理想的手段方式,fischione 1060 是一個優(yōu)秀的樣品制備工具,是一臺具有目前最先進(jìn)技術(shù)的離子研磨拋光系統(tǒng),設(shè)計精巧,操作方便,性能穩(wěn)定。1060 離子研磨拋光儀為 sem 呈現(xiàn)樣品表面結(jié)構(gòu)和分析樣品特性提供了便利,是 sem 樣品制備完美的工具,正不斷用于制備高質(zhì)量的 sem 樣品,滿足苛刻的成像及分析要求。

專利的雙離子束源

fischione 1060 兩束專利電磁聚焦離子束源可直接控制作用在樣品表面的離子束斑點(diǎn)直徑,操作者可以根據(jù)需求自己調(diào)節(jié)。兩束離子束可以同時聚焦在樣品表面,這樣可以大大提高研磨拋光速度。1060 離子束源采用獨(dú)特的專利電磁聚焦設(shè)計,這樣的設(shè)計可以讓離子束斑點(diǎn)直徑可調(diào),從而離子撞擊的時候是直接撞擊樣品,且只可以撞擊樣品,同時樣品濺出的材料不會沉積在樣品夾具、樣品倉或者樣品表面上。

離子研磨拋光儀有哪些應(yīng)用

sem 樣品制備時常常需要研磨拋光。制樣時即使再留意,常常一些不理想的形貌也會出現(xiàn)。隨著 sem 技術(shù)的快速發(fā)展,即使一個微不足道的損傷也會限制樣品表面的徹底觀察分析。通過惰性氣體離子研磨拋光解決樣品表面之前的損傷是一個非常理想的方法。這是離子研磨的基本功能。

塊狀樣品

事實(shí)上一些無機(jī)樣品也受益于離子研磨拋光技術(shù)。當(dāng)離子束低入射角度直接作用在樣品上時,樣品表面剩余的機(jī)械應(yīng)力損傷,氧化層及殘留物層均會被濺出,最終顯現(xiàn)原始的形貌供 sem 觀察和分析。

ebsd

ebsd 是一項(xiàng)非常有用的技術(shù),可以讓 sem 獲取更多晶體信息,因?yàn)橥ㄟ^ sem 獲得的背散射電子信息能很好的反應(yīng)材料晶體結(jié)構(gòu)、晶向和晶體紋理。ebsd 對表面信息非常敏感,任何輕微的表面缺陷均能通過 ebsd 獲得比較好的圖案信息。因此通過離子研磨拋光來增強(qiáng)表面信息是非常有利的。為了讓 ebsd 提高到更好的檢測水平,離子研磨拋光能被用來去除精細(xì)樣品材料的表面材料。使用二維的方法無法得到這一系列的技術(shù)產(chǎn)量切片技術(shù)。

半導(dǎo)體截面觀察

在半導(dǎo)體行業(yè)的很多案例中,離子研磨拋光可以讓失效分析快速的得到有用的信息。通常切割或者機(jī)械研磨樣品會產(chǎn)生樣品表面損傷,這些問題可以通過離子研磨拋光來解決,這也得力于多樣化的樣品夾具來優(yōu)化了這些操作過程。

使用飛納臺式電鏡觀察 1060 離子研磨拋光儀制樣效果

1060 離子研磨拋光儀標(biāo)準(zhǔn)版和專業(yè)版

1060 離子研磨拋光儀技術(shù)參數(shù)

離子束源

兩束電磁聚焦離子源
加速電壓范圍: 100 ev - 6.0 kev,連續(xù)可調(diào)離子束流密度高達(dá) 10 ma/cm2
可選擇單束或者雙束離子源工作
獨(dú)立控制兩束離子束源加速電壓 (僅專業(yè)版)

樣品臺

離子束入射角 0? 到 +10?
最大樣品尺寸:直徑 25mm,高度 15mm樣品高度自動感應(yīng)
360? 樣品旋轉(zhuǎn)
樣品往復(fù)搖擺,從 ±40? 到 ±60?

真空系統(tǒng)

兩級真空系統(tǒng):無油干泵和渦輪分子泵
皮拉尼型真空計感應(yīng)控制真空

工作氣體

99.999% 純度的氬氣
每離子束流速約 0.2 sccm,名義上所需壓力為 15psi 采用自動氣體流量控制技術(shù),實(shí)現(xiàn)離子源氣流的精密流量控制,含兩個流量計

氣壓源

氣動閥驅(qū)動氬氣,液氮, 或者干燥空氣;所需壓力要求名義上 60 psi

樣品照明

用戶可選的反射照明

自動終止

計時器設(shè)定自動加工終止

用戶界面

標(biāo)準(zhǔn)版
內(nèi)置觸摸屏,包含基本設(shè)備功能模塊

專業(yè)版
?內(nèi)置觸摸屏,包含基本設(shè)備功能模塊
?基于電腦,加工流程可通過參數(shù)編程并實(shí)時顯示操作狀態(tài)
?操作燈光指示器(選配)

輔助光學(xué)顯微鏡

可選配一個 7-45 倍的體視顯微放在與真空系統(tǒng)內(nèi)用于直接觀察樣品;或者選配一個具有 2,000 倍的顯微成像系統(tǒng),用于定點(diǎn)成像并顯示在電腦顯示屏上

尺寸

標(biāo)準(zhǔn)版
69cm*38cm*74cm*51cm (寬*底端到設(shè)備外殼高*底端到顯微鏡高*深)

專業(yè)版
107cm*38cm*74cm*51cm (寬-含電腦顯示器*底端到設(shè)備外殼高*底端到顯微鏡高*深)

重量

73 kg

電源

100/120/220/240 vac,50/60 hz,720 w


 
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