摘要 ：本技術(shù)概述展示了配備電噴霧離子 (ESI) 源的 Agilent G6465B Ultivo 三重四極桿 LC/MS 系統(tǒng)用于復(fù)雜基質(zhì)中分析物的穩(wěn)定性。Cyclone Ion Guide 氣旋離子導(dǎo)軌、 Vortex Collision Cell 渦流碰撞室和可加熱的雙曲面四極桿等創(chuàng)新技術(shù)可防止光學(xué)元 件或質(zhì)量過(guò)濾組件受到污染，在任意基質(zhì)條件下均可實(shí)現(xiàn)穩(wěn)定的樣品分析。 本次實(shí)驗(yàn)在紅茶提取物基質(zhì)中加標(biāo)示例農(nóng)藥混合物，并對(duì)其進(jìn)行 10000 次不間斷重 復(fù)進(jìn)樣監(jiān)測(cè)。在實(shí)驗(yàn)儀器運(yùn)行過(guò)程中未清潔任何組件，也未重新調(diào)整調(diào)諧參數(shù)。對(duì) 于每種分析物，在沒(méi)有內(nèi)標(biāo)校正的情況下，峰面積相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差百分比 (%RSD) 為 10% 以下。

前言：農(nóng)藥或環(huán)境污染物的常規(guī)分析是質(zhì)譜分析的一種常見(jiàn)應(yīng)用。 目前的方法是使用三重（串聯(lián)）四極桿質(zhì)譜儀在多反應(yīng)監(jiān)測(cè) (MRM) 模式下運(yùn)行，以實(shí)現(xiàn)對(duì)目標(biāo)分析物組分的高度特異性 檢測(cè)。儀器在這種模式下運(yùn)行，可忽略污染物和產(chǎn)生化學(xué)噪音 的組分。 無(wú)論儀器對(duì)目標(biāo)分析物的特異性如何，棘手的樣品組分（即內(nèi) 源性基質(zhì)組分）可在 MRM 過(guò)濾前積聚在離子源和離子光學(xué)系 統(tǒng)中。隨著多余組分的積聚，可能發(fā)生荷電效應(yīng)或出現(xiàn)持久性 離子抑制污染物，表現(xiàn)為信號(hào)嚴(yán)重降低。通常，這個(gè)問(wèn)題的解 決方案是通過(guò)重新調(diào)整調(diào)諧參數(shù)進(jìn)行繁瑣的儀器評(píng)估，或者關(guān) 閉儀器進(jìn)行徹底清洗。 Ultivo 三重四極桿 LC/MS 系統(tǒng)內(nèi)置的 Cyclone Ion Guide 氣旋 離子導(dǎo)軌、Vortex Collision Cell 渦流碰撞室和可加熱的雙曲面 四極桿等創(chuàng)新技術(shù)，專為免受離子源區(qū)域沉積物堆積的影響而 設(shè)計(jì)，同時(shí)可避免電荷物質(zhì)在離子光學(xué)系統(tǒng)和質(zhì)量過(guò)濾元件中 的積聚。這些創(chuàng)新技術(shù)延長(zhǎng)了儀器正常運(yùn)行時(shí)間，提高了儀器 的穩(wěn)定性和基質(zhì)耐受性，適用于任何樣品組分。 本實(shí)驗(yàn)的目的在于使用難分析且較 臟 的代表性基質(zhì)，嚴(yán)格 證明創(chuàng)新 Ultivo 組件的穩(wěn)定性。在這種情況下，選擇紅茶是因 為它含有大量干擾化合物（多酚類物質(zhì)、單寧、黃素和色素 等），這些化合物有可能沉積在儀器組件表面，從而影響儀器 的性能。

結(jié)果與討論：本實(shí)驗(yàn)在未重新調(diào)節(jié)調(diào)諧參數(shù)或清潔儀器組件的情況下，連續(xù) 進(jìn)行了 10000 次加標(biāo) 100 ng/mL 農(nóng)藥的紅茶提取物的儀器進(jìn) 樣。測(cè)得通量約為每次進(jìn)樣 0.6 min，儀器不間斷正常運(yùn)行至 少 4 天。 雖然已按 1:5 的基質(zhì)-溶劑比例進(jìn)行了稀釋，但樣品仍有可見(jiàn) 色素，如圖 2A 所示。實(shí)驗(yàn)結(jié)束時(shí)，對(duì)離子源進(jìn)行了檢測(cè)，發(fā) 現(xiàn)其中存在大量的樣品緩沖液和色素基質(zhì)組分沉積。圖 2B 顯 示了儀器剛剛完成分析后的狀態(tài)。值得注意的是質(zhì)譜進(jìn)樣口附 近的沉積，導(dǎo)致噴霧罩發(fā)黃及離子導(dǎo)入系統(tǒng)蓋上的有色組件嚴(yán) 重變黑。圖 3 顯示了每種化合物 10 次均勻間隔進(jìn)樣（每隔 1000 次） 的原始豐度洗脫曲線。色譜圖顯示，隨著時(shí)間的推移，色譜峰 的寬度和高度因保護(hù)柱降解而存在輕微的漂移。由于分析物離 子進(jìn)入質(zhì)譜儀的通量一致，無(wú)論峰寬或峰高如何，峰面積均保 持一致。使用 Agile 2 無(wú)參數(shù)峰積分器算法對(duì) 10000 幅樣品色譜圖進(jìn)行 定量，得到色譜峰的無(wú)偏差積分。圖 4 左側(cè)總結(jié)了每種分析 物的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)，顯示了平均值、標(biāo)準(zhǔn)偏差 (StDev) 和相對(duì) RSD 百分比 (%RSD)。 每種分析物的 %RSD 都小于等于 10%，在實(shí)驗(yàn)期間表現(xiàn)出了 出色的信號(hào)穩(wěn)定性。圖的其余部分為所有 10000 次進(jìn)樣中每 次進(jìn)樣的峰面積，顯示了峰面積數(shù)值的變化。峰面積的變化很 可能由液相色譜引起，這是由于基質(zhì)組分在色譜柱上的積聚造 成細(xì)微堵塞，以及質(zhì)譜儀可在污染物洗脫后恢復(fù)豐度。 

結(jié)論 ：本技術(shù)概述顯示了安捷倫 Ultivo 三重四極桿 LC/MS 系統(tǒng)結(jié)合 ESI 源 進(jìn)行 10000 次進(jìn)樣時(shí)的穩(wěn)定性能。Ultivo 三重四極桿 LC/MS 系統(tǒng)的技術(shù)創(chuàng)新使其即使在面對(duì)組成明顯復(fù)雜的樣品時(shí)，也可 避免一些導(dǎo)致儀器停機(jī)的常見(jiàn)問(wèn)題，如荷電、組件故障和污 染，或無(wú)法維持調(diào)諧條件