上海昭沅儀器設備有限公司，代理多項世界*公司的表面形貌測試產(chǎn)品，擁有一支由經(jīng)驗豐富的銷售人員和技術(shù)人員組成的團隊，著重為各高校，研究所等單位提供完整的實驗室科研儀器設備。 

 公司倡導以客戶為中心的專家式營銷模式，關注產(chǎn)品和服務的每一個細節(jié)，吸引了一批中青年專業(yè)人才，組成了充滿活力的技術(shù)開發(fā)和經(jīng)營管理隊伍，通過與大量用戶的良好互動，穩(wěn)步建立起完善的市場網(wǎng)絡和銷售服務平臺。為進一步提升產(chǎn)品品質(zhì)，公司組織專門人員建立企業(yè)標準，由上海市技術(shù)監(jiān)督局備案，保證產(chǎn)品更具卓越的品質(zhì)和優(yōu)異的穩(wěn)定性。 
 公司秉承 合作、服務、創(chuàng)新 的經(jīng)營宗旨和服務理念，決心為客戶提供無微不致的關懷，為中國科技教學實踐、材料測試、生物醫(yī)學研究、微納機電系統(tǒng)研發(fā)等領域提供先進的解決方案與咨詢服務。

各種光學顯微鏡,顯微鏡、勻膠機、等離子清洗機、干燥箱、探針式臺階儀輪廓儀,防震平臺,全光纖測試系統(tǒng),凝固點測試儀,金屬相圖儀,電鏡耗材

 X射線透射顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品概述：X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線（如真空紫外線）的zui大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時承載樣品。 X-射線越軟（能量越低），穿透能力越差，所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在 離軸 狀態(tài)工作（即薄膜與光束成一定角度）時，也需要較薄的薄膜窗口，便于X射線更好地穿透。氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成，由于此種氮化硅窗口選用低應力氮化硅（0-250MP）薄膜，因此比計量式和ST氮化硅薄膜更堅固耐用。提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域，例如，X-射線（上海光源透射成像/能譜線站）、TEM、SEM、IR、UV等?，F(xiàn)在提供X-射線顯微成像/能譜（同步輻射）用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品，規(guī)格如下：
外框尺寸 （4種標準規(guī)格）: 5 mm x 5 mm （窗口尺寸：1.0 mm或和 1.5 mm 方形） 7.5 mm x 7.5 mm （窗口尺寸：2.0 mm或 2.5 mm） 10 mm x 10 mm （窗口尺寸：3.0 mm或 5 mm 方形）邊框厚度： 200 m、381 m、525 m。 
Si3N4薄膜厚度：50、100、150和200nm我們也可以為用戶定制產(chǎn)品（30-500nm），但要100片起訂。本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品，不建議用戶重復使用，本產(chǎn)品不能進行超聲清洗，適合化學清洗、輝光放電和等離子體清洗。 技術(shù)指標：透光度：
對于X射線用窗口，500nm厚的氮化硅薄膜有很好的X光穿透效果，對于軟X射線（例如碳邊吸收譜），100-200nm厚的氮化硅薄膜窗口是用戶*。真空適用性：真空適用性數(shù)據(jù)如下：

薄膜厚度 窗口面積 壓力差 50 nm 1.0 x 1.0 mm 1 atm 100 nm 1.5 x 1.5 mm 1 atm 200 nm 2.5 x 2.5 mm 1 atm
表面平整度：氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品的表面平整性很穩(wěn)定（粗糙度小于1nm），對于X射線應用沒有任何影響。 溫度特性：氮化硅薄膜窗口產(chǎn)品是耐高溫產(chǎn)品，能夠承受1000度高溫，非常適合在其表面利用CVD方法生長各種納米材料。 化學特性：氮化硅薄膜窗口是惰性襯底。 應用簡介和優(yōu)點：1、同步輻射X射線（紫外或極紫外）透射成像或透射能譜應用中是不可或缺的樣品承載體。2、耐高溫、惰性襯底，適應各種聚合物、納米材料、半導體材料、光學晶體材料和功能薄膜材料的制備環(huán)境，利于制備理想的用于X射線表征用的自組裝單層薄膜或薄膜（薄膜直接沉積在窗口上）。3、生物和濕細胞樣本的理想承載體。特別是在等離子體處理后，窗口具有很好的親水性。4、耐高溫、惰性襯底，也可以用于化學反應和退火效應的原位表征。5、適合做為膠體、氣凝膠、有機材料和納米顆粒等的表征實驗承載體。同步輻射X射線應用參考文獻：PRL