TRUMPF加熱電源1599111 發(fā)表時間：2019-04-15 14:06 作者：胤旭機電 來源：www.yinxu99.com 瀏覽：
胤旭機電網(wǎng)最新報道 >> TRUMPF加熱電源1599111 : TRUMPF加熱電源1599111 TRUMPF中頻等離子體電源主要用于雙陰極系統(tǒng)，例如用于雙磁控濺射。得益于高輸出功率和流程穩(wěn)定性，中頻電源不僅適合具有高沉積速率的大面積建筑玻璃鍍膜，而……
TRUMPF加熱電源1599111

TRUMPF中頻等離子體電源主要用于雙陰極系統(tǒng)，例如用于雙磁控濺射。得益于高輸出功率和流程穩(wěn)定性，中頻電源不僅適合具有高沉積速率的大面積建筑玻璃鍍膜，而且適用于在半導體或太陽能電池上涂敷超薄型均勻涂層。憑借出色的精確度和生產(chǎn)效率，該款中頻工藝電源成為眾多等離子體激發(fā)應用的理想解決方案。

TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列工藝電源尤其適合高要求等離子體工藝，如反應濺射、PVD (物理氣相沉積)和 PECVD (等離子體增強化學氣相沉積)。在半導體與太陽能電池制造、建筑玻璃鍍膜以及耐磨裝飾涂層涂覆中，該發(fā)生器憑借其靈活可塑的輸出信號和精湛的電弧管理提供出色結(jié)果。

使用 TruPlasma MF 7000 (G2) 系列中頻電源可始終完全掌控工藝流程：即便在要求嚴苛的大面積鍍膜應用中，仍能最終獲得出色的涂層質(zhì)量和極高的生產(chǎn)效率。與此同時，憑借超過 90 % 的頂尖能量轉(zhuǎn)化率，此款新一代供電系統(tǒng)確保極高的運行經(jīng)濟性。

TruPlasma Bipolar 4000 (G2) 系列的進程供電是專門針對借助 PVD(物理氣相沉積)、PECVD(等離子體增強化學氣相沉積)和反應式濺射進程的等離子輔助涂層而研發(fā)的。憑借其靈活可塑的輸出信號和精湛的電弧管理使最新款發(fā)生器的雙極脈沖發(fā)射器具有廣泛用途。無論是半導體和太陽能電池制造還是建筑玻璃涂層，任何情況下都可期待高效涂層質(zhì)量和涂覆率。

全數(shù)字化電弧管理確保出色的涂層質(zhì)量和生產(chǎn)效率。

通過輸出信號變化輕松適配不同工藝。

直流電、被動脈沖式直流電和雙極脈沖：得益于多種調(diào)整選項可節(jié)約成本。

無需外部部件，因此空間需求極低。