光學(xué)式粗糙度值測量方法的優(yōu)點有哪些

以光學(xué)為基礎(chǔ)之非接觸式量測技術(shù)，除了具有非接觸的量測機(jī)制，可避免與表面精度需求極高之待測物直接碰撞，
更重要是光學(xué)檢測系統(tǒng)具備高度的量測精度，同時也具備優(yōu)良的穩(wěn)定性與可靠度。表面粗糙度在不同場合有
不一樣的需求，對于光學(xué)元件來說，表面平整度要求甚高，因此若運用一般機(jī)械接觸式的量測方法，

例如：比較量測法、探針式量測儀、電容測定法以及放射性同位素量測法，不但不能達(dá)到量測標(biāo)準(zhǔn)，
也會對待測物表面或輪廓產(chǎn)生破壞。所以，運用非接觸式量測技術(shù)，乃是較佳的選擇，目前常運用于光學(xué)量測之
方法有光線切斷法、光線反射法、光波干涉法、電荷耦合器取樣法以及光散射方法