根據(jù)日經(jīng)中文網(wǎng)的消息，東京電子6月8日發(fā)布消息稱(chēng)，將向ASML和IMEC聯(lián)合運(yùn)營(yíng)的實(shí)驗(yàn)室提供新一代設(shè)備，該設(shè)備將和ASML生產(chǎn)的EUV光刻設(shè)備進(jìn)行組合，這是東京電子首次向上述實(shí)驗(yàn)室提供設(shè)備。

該實(shí)驗(yàn)室在縮小半導(dǎo)體電路線寬的微細(xì)化技術(shù)研發(fā)（R&D）方面具備世界頂尖水平。東京電子希望通過(guò)與該實(shí)驗(yàn)室的合作，涉足最尖端半導(dǎo)體的研發(fā)，提升競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)性。

在共同研究方面，將把ASML的新一代EUV光刻設(shè)備和東京電子的涂布顯影設(shè)備組合為一體，提高半導(dǎo)體的生產(chǎn)效率。東京電子最早將于2022年上半年提供自己的設(shè)備，組合起來(lái)的設(shè)備則計(jì)劃最快于2023年投入使用。

近期，ASML也是大動(dòng)作不斷，此前就有消息，ASML計(jì)劃在韓國(guó)建設(shè)光刻設(shè)備再制造工廠及培訓(xùn)中心，主要用途是為韓國(guó)當(dāng)?shù)剡\(yùn)行的EUV光刻機(jī)的維護(hù)和升級(jí)提供助力，新廠預(yù)計(jì)在2025年建設(shè)完成，投資2400億韓元（約合13.7億人民幣）。

近期，又有消息稱(chēng)，ASML將于今年開(kāi)始為光刻機(jī)提供新型EUV防護(hù)膜，透光率可達(dá)90.6%，目前即將開(kāi)始生產(chǎn)。

在營(yíng)收方面，根據(jù)ASML發(fā)布的Q1季度財(cái)報(bào)，其在當(dāng)季營(yíng)收43.64億歐元，同比增79%，上年同期為24.41億歐元；凈利潤(rùn)為13.31億歐元，同比增240%，上年同期為3.91億歐元。