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磁控濺射鍍膜機 NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)
NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)概述：帶有水冷或者加熱(可加熱到700度)功能，可達到6旋轉(zhuǎn)平臺，支持到3個偏軸平面磁控管。系統(tǒng)配套渦輪分子泵，極限真空可達10-7Torr，15分鐘內(nèi)可以達到10-6Torr的真空。通過調(diào)整磁控管與基片之間的距離，可以獲得想要的均勻度和沉積速度。NSC-3500（A）帶有14”立方形不銹鋼腔體，3個2”
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2025-01-23 |
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光學鍍膜機 NOC-4000光學鍍膜系統(tǒng) 那諾-馬斯特
NOC-4000光學鍍膜系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NOC-4000光學涂覆系統(tǒng)提供先進的技術(shù)，在一個腔體中實現(xiàn)原子級清洗和光學樣片拋光，然后把樣片傳送到第二級腔體中對同一樣片進行表面涂覆，整個過程不間斷真空。系統(tǒng)的設(shè)計也可以支持其中任一個腔體的單獨使用，同時具備各自的自動上/下載片功能。NOC-4000光學鍍膜系統(tǒng)應用：光學涂
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2025-01-23 |
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NPE-4000ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)
NPE-4000（ICPM）ICPECVD等離子體化學氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER ICPECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4,或DLC薄膜到z大可達6”直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢.樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪
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2025-01-23 |
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PECVD設(shè)備 微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng) 那諾-馬斯特
微波等離子化學氣相沉積系統(tǒng)概述：NANO-MASTER PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜，至大可達6” 直徑的基片上，該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢，樣品臺可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的
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2025-01-23 |
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磁控濺射儀 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機
NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機產(chǎn)品特點：不銹鋼，鋁質(zhì)腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔70，250或500 l/s的渦輪分子泵，串接機械泵或干泵13.56MHz，300-600W RF射頻電源以及1KW DC直流電源晶振夾具具有的1 ?的厚度分辨率帶觀察視窗的腔門易于上下載片基于LabView軟件的PC計算機全自動控制帶密碼保護功能的多級訪問控制完全的安全聯(lián)鎖
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-3000是一款PC計算機控制的臺式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應用要求。 N
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2025-01-23 |
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蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 NTE-4000（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)
NTE-4000（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NTE-4000是一款PC計算機控制的全自動立式熱蒸發(fā)系統(tǒng)，在有機物和金屬沉積方面具有廣泛的應用。設(shè)備的設(shè)計經(jīng)過非常慎重的考慮:在小的占地面積情況下實現(xiàn)干凈、均勻、可控及可重復的工藝過程。它們具有低價格, 高性能以及高能力的特點，可滿足于客戶研發(fā)及小規(guī)模生產(chǎn)的應用要
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2025-01-23 |
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電子束蒸發(fā)鍍膜機 NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)
NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)概述：NANO-MASTER NEE-4000電子束蒸發(fā)系統(tǒng)為雙腔體的配置，其中樣品臺位于主腔體內(nèi)，二級腔體則用于安置電子束源。這種在兩個腔體之間帶有門閥的配置可以作為預真空鎖，使得電子束源腔體保持真空的情況下，實現(xiàn)基片通過主腔體放入基片到樣平臺(或夾具)上或從中取出。在需要自動裝/卸載基
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2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
