白光干涉測(cè)厚儀 白光干涉測(cè)厚儀是用來(lái)測(cè)量材料及物體厚度的儀表。在工業(yè)生產(chǎn)中常用來(lái)連續(xù)或抽樣測(cè)量產(chǎn)品的厚度（如鋼板、鋼帶、薄膜、紙張、金屬箔片等材料）。設(shè)計(jì)、安裝測(cè)厚儀時(shí)要在可能的條件下盡量靠近工作輥，目的是降低板厚的滯后調(diào)整時(shí)間。白光干涉測(cè)厚儀可以用來(lái)在線測(cè)量軋制后的板帶材厚度，并以電訊號(hào)的形式輸出。該電訊號(hào)輸給顯示器和自動(dòng)厚度控制系統(tǒng)，以實(shí)現(xiàn)對(duì)板帶厚度的自動(dòng)厚度控制。 精品推薦
品牌： 美國(guó)海洋光學(xué) 型號(hào)： NanoCalc 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：蔚海光學(xué)儀器（上海）有限公司

NanoCalc 薄膜反射測(cè)量系統(tǒng) 薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)可以用來(lái)進(jìn)行10nm~250m的膜厚分析測(cè)量，對(duì)單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測(cè)量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。 產(chǎn)品特點(diǎn) 可分析單層或多層薄膜 分辨率達(dá)0.1nm 適合于在線監(jiān)測(cè) 操作理論 最常用的兩種測(cè)量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測(cè)量、橢圓光度法測(cè)量。NanoCalc利用反射原理進(jìn)行膜厚測(cè)量。 查找n和k值 可以進(jìn)行多達(dá)三層的薄膜測(cè)量，薄膜和基體測(cè)量可以是金屬、電介質(zhì)、無(wú)定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫(kù)，用戶也可以自己添加和編輯。 NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測(cè)量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類(lèi)型的薄膜。NanoCalc也可測(cè)量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。
品牌： 美國(guó)AEP Technology 型號(hào)： NanoMap-WLS 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：aep Technology中國(guó)辦事處

薄膜測(cè)厚儀儀器簡(jiǎn)介：提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。膜厚儀主要特點(diǎn)：◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測(cè)量功能將采樣數(shù)據(jù)運(yùn)算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點(diǎn)蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺(tái)階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測(cè)量數(shù)據(jù)。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學(xué)輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來(lái)了高的分辨率、 400萬(wàn)像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長(zhǎng)范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。測(cè)量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類(lèi)產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達(dá)0.01 nm ( phase-shift mode) 可測(cè)跨學(xué)科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；膜厚儀參數(shù)性能追尋持續(xù)改進(jìn)的目標(biāo)AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請(qǐng)與我們聯(lián)系。搭載多鏡頭 最多可同時(shí)搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過(guò)設(shè)置一些選項(xiàng)、可以得到客戶需求的的曲線、標(biāo)繪、視圖（例如直方圖及雷達(dá)圖等）成像光源長(zhǎng)壽命強(qiáng)光LED，用戶可自選波長(zhǎng)范圍白光干涉儀對(duì)其光源承諾史無(wú)前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長(zhǎng)掃描各種樣品。聯(lián)系方式：aep Technology電話：+86-010-68187909傳真：+86-010-68187909手機(jī)：+86-15611184708何先生公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn

品牌： 美國(guó)海洋光學(xué) 型號(hào)： NanoCalc 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：雷迪美特中國(guó)有限公司

NanoCalc 薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測(cè)量系統(tǒng)可以用來(lái)進(jìn)行10nm~250μm的膜厚分析測(cè)量，對(duì)單層膜的分辨率為0.1nm。根據(jù)測(cè)量軟件的不同，可以分析單層或多層膜厚。產(chǎn)品特點(diǎn)可分析單層或多層薄膜分辨率達(dá)0.1nm適合于在線監(jiān)測(cè)操作理論最常用的兩種測(cè)量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測(cè)量、橢圓光度法測(cè)量。NanoCalc利用反射原理進(jìn)行膜厚測(cè)量。查找n和k值可以進(jìn)行多達(dá)三層的薄膜測(cè)量，薄膜和基體測(cè)量可以是金屬、電介質(zhì)、無(wú)定形材料或硅晶等。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫(kù)，用戶也可以自己添加和編輯。應(yīng)用NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測(cè)量，包括氧化層、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類(lèi)型的薄膜。NanoCalc也可測(cè)量在鋼、鋁、銅、陶瓷、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等。NanoCalc系統(tǒng)NC-UV-VIS-NIR重量：250-1100 nm厚度：10 nm-70 μm光源：氘鹵燈NC-UV-VIS重量：250-850 nm厚度：10 nm-20 μm光源：氘鹵燈NC-VIS-NIR重量：400-1100 nm厚度：20nm-100μm (可選1μm-250μm)光源：鹵燈NC-VIS重量：400-850 nm厚度：50 nm-20μm光源：鹵燈NC-NIR重量：650-1100 nm厚度：70 nm-70μm光源：鹵燈NC-NIR-HR重量：650-1100nm厚度：70 nm-70μm光源：鹵燈NC-512-NIR重量：900-1700 nm厚度：50 nm-200μm光源：高亮度鹵燈NanoCalc規(guī)格入射角：90°層數(shù)：3層以下需要進(jìn)行參考值測(cè)量：是透明材料：是傳輸模式：是粗糙材料：是測(cè)量速度：100ms - 1s在線監(jiān)測(cè)：可以公差（高度）：參考值測(cè)量或準(zhǔn)直(74-UV)公差（角度）：參考值測(cè)量微黑子選項(xiàng)：配顯微鏡顯示選項(xiàng)：配顯微鏡定位選項(xiàng)：6"和12" XYZ 定位臺(tái)真空：可以

品牌： 上海屹持光電 型號(hào)： SIT-200 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海屹持光電技術(shù)有限公司

硅片厚度測(cè)量?jī)x（SIT-200）由精確可調(diào)激光光源，聚焦傳感器，光學(xué)接收器組成。波長(zhǎng)掃描光聚焦照射到目標(biāo)上，由目標(biāo)表面和背面反射光干涉形成干涉圖案，經(jīng)過(guò)聚焦傳感器后由光學(xué)探測(cè)器進(jìn)行檢測(cè)。

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： * 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)：?光譜儀(MCPD-9800/MCPD-3700/MCPD-7700)提供豐富選配套件以及客制化光纖。?可依據(jù)安裝現(xiàn)場(chǎng)需求評(píng)估設(shè)計(jì)。?可靈活架設(shè)于各種環(huán)境下的最佳即時(shí)測(cè)量系統(tǒng)。測(cè)量項(xiàng)目： 分光光譜儀種類(lèi)測(cè)量波長(zhǎng)范圍MCPD-9800：高動(dòng)態(tài)范圍型360～1100nmMCPD-3700：紫外/可視/近紅外光型220~1000nmMCPD-7700：高感度型220~1100nm平面顯示器模組測(cè)量：平面顯示器（FPD）模組、液晶顯示器（LCD）模組、電漿顯示器（PDP）模組、CRT顯示器、OLED面板系統(tǒng)架構(gòu)： ①光譜儀②受光光纖③放射感應(yīng)器測(cè)量實(shí)例： 液晶面板色度測(cè)量液晶面板對(duì)比測(cè)量

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： 01 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)：?自由搭配的光纖架構(gòu)，可安裝于生產(chǎn)線上、半導(dǎo)體晶圓研磨設(shè)備或真空鍍膜設(shè)備中。?遠(yuǎn)端同步控制、高速多點(diǎn)同步測(cè)量等。?豐富多樣的光學(xué)系統(tǒng)套件與應(yīng)用軟件，提供特殊環(huán)境下最理想的膜厚解決方案。產(chǎn)品架構(gòu)： ?半導(dǎo)體晶圓面內(nèi)分布測(cè)量?玻璃基板面內(nèi)分布測(cè)量?即時(shí)性量測(cè)?輸送方向的定點(diǎn)品質(zhì)管理?對(duì)應(yīng)真空環(huán)境之設(shè)備?即時(shí)性測(cè)量?輸送方向的全面品質(zhì)管理

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： - 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)：?薄膜到厚膜的測(cè)量范圍、UV～NIR光譜分析。?高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜測(cè)量?jī)x。?藉由絕對(duì)反射率光譜分析膜厚。?完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能。?無(wú)復(fù)雜設(shè)定，操作簡(jiǎn)單，短時(shí)間內(nèi)即可上手。?非線性最小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。產(chǎn)品規(guī)格： 型號(hào)FE-300VFE-300UVFE-300NIR對(duì)應(yīng)膜厚標(biāo)準(zhǔn)型薄膜型厚膜型超厚膜型樣品尺寸最大8寸晶圓（厚度5mm）膜厚范圍100nm~40μm10nm~20μm3μm~30μm15μm~1.5mm波長(zhǎng)范圍450nm~780nm300nm~800nm900nm~1600nm1470nm~1600nm膜厚精度±0.2nm以內(nèi)±0.2nm以內(nèi)--重復(fù)再現(xiàn)性(2σ)0.1nm以內(nèi)0.1nm以內(nèi)--測(cè)量時(shí)間0.1s～10s以內(nèi)測(cè)量口徑約Φ3mm光源鹵素?zé)鬠V用D2燈鹵素?zé)酐u素?zé)敉ㄓ嵔缑鎁SB尺寸重量280（W）×570（D）×350（H）mm，約24kg軟件功能標(biāo)準(zhǔn)功能波峰波谷解析、FFT解析、最適化法解析、最小二乘法解析選配功能材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析應(yīng)用范圍： ?半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)?光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)應(yīng)用范例：?PET基板上的DLC膜?Si基板上的SiNx

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： 1 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)：?400波長(zhǎng)以上多通道分光的橢偏儀，高速測(cè)量橢圓偏光光譜。?自動(dòng)變更反射測(cè)量角度，可得到更詳細(xì)的薄膜解析數(shù)據(jù)。?采用正弦桿自動(dòng)驅(qū)動(dòng)方式，展現(xiàn)測(cè)量角度變更時(shí)優(yōu)異的移動(dòng)精度。?搭載薄膜分析所需的全角度同時(shí)測(cè)量功能。?可測(cè)量晶圓與金屬表面的光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。產(chǎn)品規(guī)格： 樣品對(duì)應(yīng)尺寸100×100mm測(cè)量方式偏光片元件回轉(zhuǎn)方式入射/反射角度范圍45～90o入射/反射角度驅(qū)動(dòng)方式反射角度可自動(dòng)變更波長(zhǎng)測(cè)量范圍300～800nm分光元件Poly-chrometer尺寸650（H）×400（D）×560（W）mm重量約50kg

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： // 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)：?橢圓偏振術(shù)測(cè)量紫外光到可見(jiàn)光波長(zhǎng)橢圓參數(shù)。?0.1nm以上奈米級(jí)光學(xué)薄膜厚度測(cè)量。?400波長(zhǎng)以上多通道分光的橢偏儀，高速測(cè)量橢圓偏光光譜。?可自由變換反射測(cè)量角度，得到更詳細(xì)的薄膜解析數(shù)據(jù)。?非線性最小平方法解析多層膜、光學(xué)常數(shù)。產(chǎn)品規(guī)格： 膜厚測(cè)量范圍0.1nm~波長(zhǎng)測(cè)量范圍250~800nm（可選擇350～1000nm）感光元件光電二極管陣列512ch（電子制冷）入射/反射角度范圍45～90o電源規(guī)格AC1500VA（全自動(dòng)型)尺寸1300（H）×900（D）×1750（W）mm重量約350kg（全自動(dòng)型）應(yīng)用范圍： ■半導(dǎo)體晶圓?電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜，電極材料等?SiO2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al2O2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN?光阻劑光學(xué)常數(shù)(波長(zhǎng)色散)■化合物半導(dǎo)體?AlxGa(1-x)As多層膜、非結(jié)晶矽■平面顯示器?配向膜?電漿顯示器用ITO、MgO等■新材料?類(lèi)鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導(dǎo)性薄膜、磁頭薄膜■光學(xué)薄膜?TiO2、SiO2、多層膜、抗反射膜、反射膜■平版印刷領(lǐng)域?g線(436nm)、h線(405nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)等于各波長(zhǎng)的n、k值評(píng)價(jià)應(yīng)用范例： 非線性最小平方法比對(duì)NIST標(biāo)準(zhǔn)樣品(SiO2)膜厚精度確認(rèn)

品牌： 日本HalfMoon 型號(hào)： 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

產(chǎn)品特點(diǎn)： ?非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計(jì)。?高精度、高再現(xiàn)性測(cè)量紫外到近紅外波長(zhǎng)反射率光譜，分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)（n：折射率，k消光系數(shù)）。?寬闊的波長(zhǎng)測(cè)量范圍。（190nm-1100nm）?薄膜到厚膜的膜厚測(cè)量范圍。（1nm~250μm）?對(duì)應(yīng)顯微鏡下的微距測(cè)量口徑。產(chǎn)品規(guī)格： 標(biāo)準(zhǔn)型厚膜專用型膜存測(cè)量范圍1nm~40μm0.8μm~250μm波長(zhǎng)測(cè)量范圍190~1100nm750~850nm感光元件PDA512ch（電子制冷）CCD512ch（電子制冷）PDA512ch（電子制冷）光源規(guī)格D2（紫外線）、12（可見(jiàn)光）、D2+12（紫外-可見(jiàn)光）12（可見(jiàn)光）電源規(guī)格AC100V±10V750VA（自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格）尺寸4810（H）×770（D）×714（W）mm（自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分）重量約96kg（自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分）應(yīng)用范圍： FPD-LCD、TFT、OLED（有機(jī)EL）半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體-矽半導(dǎo)體、半導(dǎo)體鐳射、強(qiáng)誘電、介電常數(shù)材料資料儲(chǔ)存-DVD、磁頭薄膜、磁性材料光學(xué)材料-濾光片、抗反射膜平面顯示器-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED薄膜-AR膜其他-建筑用材料測(cè)量范圍： 玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質(zhì)分析

品牌： 南京科美 型號(hào)： ST4080-OSP 產(chǎn)地：韓國(guó) 供應(yīng)商：北京三尼陽(yáng)光科技發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介：1996年以來(lái)，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案。科美，作為測(cè)量和分析技術(shù)市場(chǎng)上的領(lǐng)頭和動(dòng)力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。技術(shù)參數(shù)：波長(zhǎng)范圍 420nm ~ 640nm 厚度測(cè)量范圍 350 ~ 3 最小光斑尺寸 1.35, 0.135 目標(biāo)面積 864X648 / 86.4X64.8 物鏡轉(zhuǎn)動(dòng)架 5X(spot size 20), 50X(spot size 0.2) 測(cè)量層 1 固定樣臺(tái)面積 270mm(L) X 240mm(D) Z軸再現(xiàn)性 ± 1 自動(dòng)Z裝置 Z direction Head Movement Travel range: 50mm Max. velocity: 50mm/s Non-destructive OSP thickness measurement No sample preparation for fast and easy operation Available to detect OSP coating on Cu with rough surface conditions Auto-focusing function 3D contours results主要特點(diǎn)：ST4080-OSP（有機(jī)可焊性保護(hù)膜）專用于測(cè)量PCB/PW板的銅鉑表面的OSP厚度。作為使用分光反射法的非破壞性光學(xué)測(cè)量?jī)x，它可提供平均厚度和詳細(xì)的3D平面輪廓資料，使得實(shí)時(shí)檢測(cè)無(wú)需任何的樣品制備。 由于ST4080-OSP具有測(cè)量很小面積與自動(dòng)聚焦功能，適用于PCB基板表面的實(shí)模式。ST4080-OSP基于科美公司的厚度測(cè)量技術(shù)，而它在半導(dǎo)體，平板顯示與其他電子材料行業(yè)方面的可靠性得到了證實(shí)。 為什么要選擇 ST4080-OSP? ST4080-OSP使用反射測(cè)量法提供PCB/PWB表面OSP涂層厚度的非接觸和非破壞性實(shí)時(shí)測(cè)量。 ST4080-OSP 無(wú)需樣品制備，可確?？焖俸秃?jiǎn)便操作。 ST4080-OSP測(cè)量的光斑尺寸可減小到0.135，這使得它可測(cè)量表面粗糙的銅的OSP涂層厚度. ST4080-OSP 與紫外可見(jiàn)分光計(jì)，受迫離子束方法，時(shí)序電化學(xué)還原分析還有其他的測(cè)量方法相比較，它基于更可靠的測(cè)量技術(shù)。 ST4080-OSP 可獲取420nm~640nm范圍內(nèi)的多波長(zhǎng)光譜。 ST4080-OSP可提供各點(diǎn)和它們的平均厚度的詳細(xì)數(shù)據(jù)，這樣可幫助人們更好地控制OSP質(zhì)量。 ST4080-OSP 通過(guò)3D表面形態(tài)學(xué)將測(cè)量程序最優(yōu)化。

品牌： 南京科美 型號(hào)： ST5000 產(chǎn)地：韓國(guó) 供應(yīng)商：北京三尼陽(yáng)光科技發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介：1996年以來(lái)，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案?？泼溃鳛闇y(cè)量和分析技術(shù)市場(chǎng)上的領(lǐng)頭和動(dòng)力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。技術(shù)參數(shù)：活動(dòng)范圍 ~300mm x 300mm 測(cè)量范圍 100~ 35(Depends on Film Type) 光斑尺寸 40/20,4(option) 測(cè)量速度 1~2 sec./site(fitting time) 應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measurement 選擇 Transmittance Module Reference Sample(K-MAC or KRISS or NIST) 接物鏡旋轉(zhuǎn)器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點(diǎn) Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp主要特點(diǎn)：尺寸 1100 x 1250 x 1550 mm 重量 400kg 類(lèi)型 自動(dòng)的 測(cè)量方法 無(wú)連接的 測(cè)量原理 反射計(jì) 測(cè)量迅速，操作簡(jiǎn)單 非接觸式，非破壞方式 優(yōu)秀的重復(fù)性和再現(xiàn)性 2D/3D 映射和造型 自動(dòng)機(jī)械活動(dòng)控制 電荷耦合器件照相機(jī) 自動(dòng)調(diào)焦

品牌： 南京科美 型號(hào)： ST5030-SL 產(chǎn)地：韓國(guó) 供應(yīng)商：北京三尼陽(yáng)光科技發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介： 1996年以來(lái)，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案?？泼?，作為測(cè)量和分析技術(shù)市場(chǎng)上的領(lǐng)頭和動(dòng)力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。
測(cè)量速度 1~2 sec./site (fitting time) 應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Large Size Wafer Measure 選擇 Reference sample(K-MAC or KRISS or NIST) Anti-vibration table 接物鏡轉(zhuǎn)換器 Quintuple Revolving Nosepiecs 焦點(diǎn) Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
品牌： 南京科美 型號(hào)： ST4000-DLX 產(chǎn)地：韓國(guó) 供應(yīng)商：北京三尼陽(yáng)光科技發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介： 1996年以來(lái)，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案?？泼?，作為測(cè)量和分析技術(shù)市場(chǎng)上的領(lǐng)頭和動(dòng)力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。
應(yīng)用領(lǐng)域 All Capability of ST2000 More Precision Measurement Intended for Wafer Measurement OLED 選項(xiàng) Programmable Auto Z Stage 參考樣品(K-MAC or KRISS or NIST) 焦點(diǎn) Coaxial Coarse and Fine Focus Controls 附帶照明 12v 100W Halogen Lamp
品牌： 南京科美 型號(hào)： ST2000-DLXn 產(chǎn)地：韓國(guó) 供應(yīng)商：北京三尼陽(yáng)光科技發(fā)展有限公司

儀器簡(jiǎn)介： 1996年以來(lái)，科美在半導(dǎo)體，平板顯示器，電子物質(zhì)，生命科學(xué)和化學(xué)分析上，研發(fā)和提供了獨(dú)特的，先進(jìn)的解決方案?？泼?，作為測(cè)量和分析技術(shù)市場(chǎng)上的領(lǐng)頭和動(dòng)力，以它突出的表現(xiàn)得到了世界范圍的認(rèn)可。
nosepiece Quadruple Revolving Mechanism with Inward Tilt 照明類(lèi)型 12V 35W Halogen Lamp Built-in Control Device Transformer
品牌： 德國(guó)applied-spectroscopy 型號(hào)： Plasma Emission Messurement System 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：安柏來(lái)科學(xué)儀器（上海）有限公司

等離子體發(fā)射測(cè)量在紫外線…近紅外線范圍可同時(shí)觀察到等離子發(fā)射低壓等離子沉積技術(shù)是一個(gè)客觀的連續(xù)不斷的過(guò)程，如PVD（物理氣象沉積）是今天真正的問(wèn)題之一。除了等離子體發(fā)射光的表觀檢查，有時(shí)也使用質(zhì)譜技術(shù)。但是質(zhì)譜技術(shù)既不方便操作，其結(jié)果也不容易理解。與此相比，使用OES（發(fā)射光譜）和光纖耦合TranSpec光譜儀的有點(diǎn)是顯而易見(jiàn)的。技術(shù)特征在200…1000nm光譜范圍內(nèi)可同時(shí)測(cè)量可檢測(cè)非常底的發(fā)射信號(hào)可連接到幾乎每個(gè)真空室無(wú)需維護(hù)舒適和易于使用的PEMProVis專業(yè)版軟件用于全球主要的汽車(chē)燈以及CD生產(chǎn)商進(jìn)行有機(jī)膜厚測(cè)試

品牌： 德國(guó)applied-spectroscopy 型號(hào)： TranSpec 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：安柏來(lái)科學(xué)儀器（上海）有限公司

產(chǎn)品描述TranSpec光譜儀結(jié)合創(chuàng)新的光電技術(shù)與強(qiáng)大的模擬/數(shù)字電子技術(shù)和最新的計(jì)算機(jī)技術(shù)。借助于靈活的光纖，TranSpec的應(yīng)用范圍從標(biāo)準(zhǔn)的常規(guī)實(shí)驗(yàn)室分析到在線過(guò)程測(cè)量技術(shù)的特殊任務(wù)。使用FSMA標(biāo)準(zhǔn)光纖連接的高穩(wěn)定性光電二級(jí)管陣列分光計(jì)使用spurious-free動(dòng)態(tài)范圍的1MHz16位模擬/數(shù)字轉(zhuǎn)換器針對(duì)紫外線……近紅外光譜范圍可使用不同的分光計(jì)模塊可選的集成鹵素或氘/鹵素結(jié)合光譜燈無(wú)可移動(dòng)部分-無(wú)需重復(fù)校準(zhǔn)-無(wú)需維護(hù)可連接到標(biāo)準(zhǔn)USB2.0（USB3.0）或選擇連到以太網(wǎng)/局域網(wǎng)可用程序庫(kù)開(kāi)發(fā)特殊的應(yīng)用應(yīng)用領(lǐng)域用于全球主要的汽車(chē)燈以及CD生產(chǎn)商進(jìn)行有機(jī)膜厚測(cè)試。

品牌： 德國(guó)applied-spectroscopy 型號(hào)： TranSpec Micro 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：安柏來(lái)科學(xué)儀器（上海）有限公司

產(chǎn)品描述TranSpecMicro新的光纖耦合TranSpecMicro薄膜厚度顯微鏡可以將薄膜厚度測(cè)量點(diǎn)的大小降到50-100um。測(cè)量點(diǎn)的圖像可通過(guò)裝在顯微鏡上的特殊彩色相機(jī)實(shí)時(shí)查看。TranSpecMicro薄膜厚度測(cè)量?jī)x和我們TranSpec和TranSpecLite儀器一樣采用白光干涉原理。為了測(cè)量非常小的點(diǎn)，TranSpecMicro使用裝有實(shí)時(shí)顯示相機(jī)的光纖耦合顯微鏡。光纖耦合纖維鏡可以將薄膜厚度測(cè)量點(diǎn)的大小降到50-100um（根據(jù)放大倍數(shù)的不同），測(cè)量點(diǎn)的圖像可通過(guò)裝在顯微鏡上的特殊彩色相機(jī)實(shí)時(shí)查看。應(yīng)用領(lǐng)域主要用于全球主要的汽車(chē)燈以及CD生產(chǎn)商進(jìn)行有機(jī)膜厚測(cè)試。

品牌： 德國(guó)applied-spectroscopy 型號(hào)： Transpec Lite 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：安柏來(lái)科學(xué)儀器（上海）有限公司

技術(shù)特點(diǎn)光學(xué)方法，非接觸、無(wú)損測(cè)量，安全無(wú)輻射。快速膜厚分析，只需幾毫秒即可獲得測(cè)量結(jié)果膜厚測(cè)量范圍 0.1- 150微米( 0.004 to 6 mil )極高的分析準(zhǔn)確度，在整個(gè)厚度測(cè)量范圍內(nèi)偏差小于0.005微米可同時(shí)分析計(jì)算兩層膜厚可同時(shí)支持實(shí)驗(yàn)室離線分析或者在線生產(chǎn)分析主要用于全球主要的汽車(chē)燈以及CD生產(chǎn)商進(jìn)行有機(jī)膜厚測(cè)試。

氧化物、氮化物、感光耐蝕膜、聚合物、半導(dǎo)體(Si, aSi,polySi)、半導(dǎo)體化合物(AlGaAs,InGaAs,CdTe,CIGS)、硬涂層(SiC, DLC), 聚合物涂料 (Paralene, 聚甲基丙烯酸甲酯, 聚酰胺), 薄金屬薄膜等。 厚度范圍: 1 nm-1 mm 波長(zhǎng)范圍: 200nm -5000nm 在薄膜太陽(yáng)能電池中的應(yīng)用: aSi, TCO, CIGS, CdS, CdTe-全太陽(yáng)能堆棧測(cè)量 LCD, FPD應(yīng)用: ITO, 細(xì)胞間隙，聚酰胺。 光學(xué)涂層: 介質(zhì)濾波器，硬涂層，防反射涂層半導(dǎo)體和電解質(zhì): 氧化物，氮化物, OLED堆。 實(shí)時(shí)測(cè)量和分析。各種多層次的, 高強(qiáng)度的,厚的, 獨(dú)立和不均勻的層 。 豐富的材料庫(kù) (500多種材料) 新材料容易增添。 支持參數(shù)化材料: Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA 等 使用靈活: 可聯(lián)網(wǎng)在操作臺(tái)桌面或現(xiàn)場(chǎng)進(jìn)行研究與開(kāi)發(fā)。用TCP或Modbus接口能容易的和外部系統(tǒng)連接。 測(cè)量參數(shù)： 厚度、光學(xué)常數(shù)、表面粗糙度。 界面友好強(qiáng)大: 測(cè)量和分析設(shè)置簡(jiǎn)單。背景和縮放修正,連接層和材料。
* T, n k 測(cè)量的厚度范圍為25nm 5um 其他配置也是可以做到，歡迎原始設(shè)備制造商咨詢和定制開(kāi)發(fā)項(xiàng)目。 對(duì)所有系統(tǒng)中的配件有一年的質(zhì)量保證。
品牌： 日本倉(cāng)紡 型號(hào)： NR 2100 產(chǎn)地：日本 供應(yīng)商：上海韻鼎國(guó)際貿(mào)易有限公司

儀器用途簡(jiǎn)介：汽車(chē)鋼板上的防銹油、滾軋潤(rùn)滑油等涂油量的測(cè)量耐指紋、潤(rùn)滑性鋼板等有機(jī)油膜厚度的測(cè)量鋁罐（易拉罐內(nèi)壁）等有機(jī)膜涂布量的測(cè)量彩色鋼板的底漆厚度及背面涂布量的測(cè)量其他金屬上有機(jī)膜涂布量的測(cè)量技術(shù)參數(shù)：測(cè)量方法:紅外反射吸收方式(旋轉(zhuǎn)過(guò)濾器方式)測(cè)量范圍:0.1～10μm反復(fù)再現(xiàn)性:0.01μm以下測(cè)量面積:518×36mm(橢圓)尺寸?重量:100(W)×210(D)×145(H)、約1.5kg主要特點(diǎn)：三點(diǎn)定位，獨(dú)特光源，精確精確再精確。本產(chǎn)品深得鋼鐵業(yè)、鋁業(yè)客戶厚愛(ài)。如果把紅外線照射到被測(cè)物上,就會(huì)發(fā)生與膜厚相對(duì)應(yīng)的特定波長(zhǎng)的紅外線吸收現(xiàn)象。從透過(guò)光或鏡面金屬板的正反射光來(lái)掌握吸收量,再按事先測(cè)得的吸光度與水分值的關(guān)系式,可以測(cè)量膜厚。并且,采用本公司獨(dú)自的P偏光入射方式。消除因表面反射或內(nèi)部多重反射引起的誤差,提供紅外線測(cè)厚儀最理想的硬件。 小型、輕量自由攜帶,可測(cè)量鋼板上的任意位置。 高性能通過(guò)采用P偏光方式,即使是薄的有機(jī)膜也可測(cè)量。 內(nèi)置打印機(jī)因內(nèi)部設(shè)置了打印機(jī)，數(shù)據(jù)的整理變得極為簡(jiǎn)單。

品牌： 美國(guó)Rtec 型號(hào)： UP- 3D 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：南京冉銳科技有限公司

美國(guó)Rtec三維形貌儀測(cè)量系統(tǒng)沿著縱軸捕獲一系列位置的光強(qiáng)數(shù)據(jù)。通過(guò)白光干涉圖的形狀，干涉圖的局部相位或者是二者的結(jié)合來(lái)確定表面位置。本公司還有激光共焦，白光共焦，拉曼光譜儀等，可以把這些設(shè)備自由組合在一起，以實(shí)現(xiàn)客戶的不同需求特點(diǎn)：快速直觀的操作較高的計(jì)算程序，精確的高測(cè)量速度和簡(jiǎn)便的操作軟件，使用戶能夠快速的分析和創(chuàng)建報(bào)告多個(gè)物鏡帶有6物鏡轉(zhuǎn)輪，包括多個(gè)物鏡：長(zhǎng)焦，短焦，不同數(shù)值孔徑，投射鏡頭等電子器件先進(jìn)的控制器，低機(jī)械噪聲，自校準(zhǔn)系統(tǒng)，可選波長(zhǎng)，64位并行處理器，標(biāo)準(zhǔn)分辨率達(dá)到1920*1920硬件能夠被固定到全自動(dòng)化的平臺(tái)，高強(qiáng)度LED10年保修，高級(jí)精加工零部件，低能耗，遠(yuǎn)程訪問(wèn)，內(nèi)置相機(jī)側(cè)視圖，有效照明等。軟件三維虛擬軟件影像分析多種標(biāo)準(zhǔn)，粗糙，平面，波浪以及其他表面參數(shù)微粒（粒子）和細(xì)孔分析力曲線分析附帶傅里葉分析過(guò)濾用戶界面報(bào)告的創(chuàng)建和編輯影像編輯特征-光，顏色等尺寸，表面積，體積，承載比分析紋理計(jì)算，分類(lèi)，其他紋理分析光譜和分形分析先進(jìn)的統(tǒng)計(jì)分析能夠輸出原始數(shù)據(jù)，影像，全部報(bào)告數(shù)個(gè)可用的附加功能參數(shù)：內(nèi)校準(zhǔn)4百萬(wàn)像素可選波長(zhǎng)高強(qiáng)度長(zhǎng)壽命LED1920*1920成像64位中央處理器低機(jī)械噪聲并行處理6物鏡轉(zhuǎn)輪

品牌： 美國(guó)Rtec 型號(hào)： UP-WLI 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：南京冉銳科技有限公司

白光干涉測(cè)量系統(tǒng)沿著垂直軸向捕獲光強(qiáng)數(shù)據(jù)，通過(guò)白光干涉圖的形狀，局部相位或者兩者結(jié)合確定表面位置 Vertical Resolution 垂直分辨率 0.1nm 0.1nm Turret upto 6 objective turret (manual or automatic) 6鏡頭轉(zhuǎn)輪（自動(dòng)或手動(dòng)） Scan Range 掃描范圍 Up to 150mm x 150mm 最高達(dá)150mmx150mm Sample thickness 試樣厚度 upto 100mm 最高達(dá)100mm FOV upto 10mm 最高達(dá)10mm Objectives 10x,50x 10倍，50倍 Z focussing range Z軸方向聚焦范圍 nm to 10mm 0.1nm到10mm Scanning area 掃描區(qū)域 150x150mm 150x150mm Tilt 傾斜角 +/- 7 degree +/-7度 Rotation (theta) 平臺(tái)旋轉(zhuǎn)范圍 360 Degree 360度 Pixel Standard 1024 x 1024 標(biāo)準(zhǔn)1024x1024

品牌： 美國(guó)AEP Technology 型號(hào)： NanoMap-1000WLI（0） 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：aep Technology中國(guó)辦事處

NanoMap-1000WLI 膜厚儀儀器簡(jiǎn)介：該膜厚儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。主要特點(diǎn)：◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取◆多種測(cè)量功能將采樣數(shù)據(jù)運(yùn)算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點(diǎn)蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺(tái)階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測(cè)量數(shù)據(jù)。NanoMap-1000WLINanoMap-1000WLI膜厚儀是非接觸式三維高清圖像的光學(xué)輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來(lái)了高的分辨率、 400萬(wàn)像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長(zhǎng)范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析。基于傅立葉變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。膜厚儀主要應(yīng)用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度，臺(tái)階高度，二維粗糙度（Ra,Rq,Rmax...），三維粗糙度（Sa,Sq,Smax），劃痕截面面積，劃痕體積，磨損面積，磨損體積，磨損深度，薄膜應(yīng)力（曲定量率半徑法）等定量測(cè)量。擺脫了以往只能得到二維信息，或三維信息過(guò)于粗糙的現(xiàn)狀。將輪廓儀帶入了另一個(gè)高精度測(cè)量的新時(shí)代。測(cè)量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類(lèi)產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達(dá)0.01 nm ( phase-shift mode) 可測(cè)跨學(xué)科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；三維形貌儀參數(shù)性能追尋持續(xù)改進(jìn)的目標(biāo)AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請(qǐng)與我們聯(lián)系。搭載多鏡頭 最多可同時(shí)搭載6枚物鏡Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm手動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)范圍 360度高清圖像2維、3維的直方圖等視圖白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過(guò)設(shè)置一些選項(xiàng)、可以得到客戶需求的的曲線、標(biāo)繪、視圖（例如直方圖及雷達(dá)圖等）成像光源長(zhǎng)壽命強(qiáng)光LED，用戶可自選波長(zhǎng)范圍白光干涉儀對(duì)其光源承諾史無(wú)前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。三維形貌儀允許客戶改變可用波長(zhǎng)掃描各種樣品。聯(lián)系方式：aep Technology電話：+86-010-68187909傳真：+86-010-68187909手機(jī)：+86-15611184708何先生公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn關(guān)

品牌： 美國(guó)AEP Technology 型號(hào)： NanoMap-1000WLI（1） 產(chǎn)地：美國(guó) 供應(yīng)商：aep Technology中國(guó)辦事處

儀器簡(jiǎn)介：臺(tái)階儀該款臺(tái)階儀提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。臺(tái)階儀主要特點(diǎn)： ◆微觀二維（2D）和三維(3D)形貌輪廓獲取 ◆多種測(cè)量功能 將采樣數(shù)據(jù)運(yùn)算后,可獲得精確定量的面積（空隙率，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）、體積（孔深，點(diǎn)蝕，圖案化表面，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）、臺(tái)階高度、線與面粗糙度,透明膜厚、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測(cè)量數(shù)據(jù)。 NanoMap-1000WLI NanoMap-1000WLI臺(tái)階儀是非接觸式三維高清圖像的光學(xué)輪廓儀白光干涉儀器 - 白光干涉帶來(lái)了高的分辨率、 400萬(wàn)像素的圖像、大的掃描范圍，可定制的波長(zhǎng)范范圍，使用戶可以輕松靈活的的到任何表面形貌。提供了二維分析、三維分析、表面紋理分析、粗糙度分析、波度分析、PSD分析、體積、角度計(jì)算、曲率計(jì)算、模擬一維分析、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等。綜合繪圖軟件可以采集、分析、處理和可視化數(shù)據(jù)。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易。多項(xiàng)式配置、數(shù)據(jù)配置、掃描、屏蔽和插值。交互縮放。X-Y和線段剖面。三維線路、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖。 臺(tái)階儀主要應(yīng)用在金屬材料、生物材料、聚合物材料、陶瓷材料等各種材料表面的薄膜厚度，臺(tái)階高度，二維粗糙度（Ra,Rq,Rmax...），三維粗糙度（Sa,Sq,Smax），劃痕截面面積，劃痕體積，磨損面積，磨損體積，磨損深度，薄膜應(yīng)力（曲定量率半徑法）等定量測(cè)量。擺脫了以往只能得到二維信息，或三維信息過(guò)于粗糙的現(xiàn)狀。將輪廓儀帶入了另一個(gè)高精度測(cè)量的新時(shí)代。 測(cè)量表面可以覆蓋90%以上材料表面。設(shè)備傳感器精度高，穩(wěn)定性好，材料應(yīng)用面廣。熱噪聲是同類(lèi)產(chǎn)品最低的。垂直分辨率可達(dá)0.01 nm ( phase-shift mode) 可測(cè)跨學(xué)科、跨領(lǐng)域的各種樣品表面，包括透明、金屬材料，半透明、高漫反射，低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學(xué)材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…)；
AEP的技術(shù)致力于日新月異的改善產(chǎn)品性能參數(shù)。 欲了解最新的配置和性能，請(qǐng)與我們聯(lián)系。 搭載多鏡頭 最多可同時(shí)搭載6枚物鏡 Z軸聚焦范圍 0.1納米至10mm 手動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)范圍 360度 高清圖像 2維、3維的直方圖等視圖 白光干涉可以呈現(xiàn)2維和3維圖像。利用所提供的軟件，通過(guò)設(shè)置一些選項(xiàng)、可以得到客戶需求的的曲線、標(biāo)繪、視圖（例如直方圖及雷達(dá)圖等） 臺(tái)階儀成像光源 長(zhǎng)壽命強(qiáng)光LED，用戶可自選波長(zhǎng)范圍 白光干涉儀對(duì)其光源承諾史無(wú)前例的十年質(zhì)保。高亮的LED允許成像樣品的反射率范圍從小于0.4%到100%（高亮度的LED使反射率從小于0.4%到100%的樣品均可清晰成像。）白光干涉光源承諾十年質(zhì)保。 三維形貌儀允許客戶改變可用波長(zhǎng)掃描各種樣品。 聯(lián)系方式：aep Technology 電話：+86-010-68187909 傳真：+86-010-68187909 手機(jī)：+86-15611184708何先生 公司網(wǎng)址：www.aeptechnolongy.com.cn關(guān)鍵詞：三維表面輪廓儀、三維輪廓儀、白光干涉儀、三維臺(tái)階儀、三維薄膜分析儀、三維形貌儀、三維粗糙度儀、表面輪廓儀、表面臺(tái)階儀、薄膜分析儀、表面形貌儀、表面粗糙度儀、非接觸式輪廓儀、非接觸式臺(tái)階儀、非接觸式表面形貌儀、非接觸式表面粗糙度儀、接觸式輪廓儀、接觸式臺(tái)階儀、接觸式表面形貌儀、接觸式表面粗糙度儀、探針式輪廓儀、探針式臺(tái)階儀、探針式表面形貌儀、探針式表面粗糙度儀、雙模式輪廓儀、雙模式臺(tái)階儀、雙模式表面形貌儀、雙模式表面粗糙度儀、三維表面輪廓儀、三維表面臺(tái)階儀、三維表面形貌儀、三維表面粗糙度儀，表面臺(tái)階儀，三維臺(tái)階儀，薄膜臺(tái)階儀，微觀臺(tái)階儀，臺(tái)階測(cè)量?jī)x

品牌： 德國(guó)BMT 型號(hào)： WLI VLA 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

德國(guó)BMT WLI VLA干涉儀德國(guó)BMT WLI VLA干涉儀可快色準(zhǔn)確的測(cè)量粗糙和鏡面反射工件的表面輪廓?？捎糜跍y(cè)量平整度、波紋度、扭曲、臺(tái)階高度和多種其他表面特性。產(chǎn)品特點(diǎn)：粗糙和鏡面反射表面的微觀測(cè)量平整度和輪廓測(cè)量測(cè)量結(jié)果不受樣品的顏色和材料影響測(cè)量時(shí)間短，數(shù)秒完成測(cè)量范圍大快速分析表面結(jié)構(gòu)非常小巧自動(dòng)獲取數(shù)據(jù)并評(píng)估進(jìn)行可定制各種配置幾乎免維護(hù)技術(shù)參數(shù)：光源 LED測(cè)量范圍 （mm) 15垂直分辨率（nm） ≥1橫向分辨率（μm） 20-80測(cè)量面積 （mm） 10×10 40×40工作距離 （mm) 24數(shù)碼相機(jī)＜14位（Pixel） 1280×1024

品牌： 德國(guó)BMT 型號(hào)： WLI Infra 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLI Infra干涉儀德國(guó)BMT WLI Infra干涉儀是用于硅薄膜的厚度測(cè)量設(shè)備。儀器適用于實(shí)驗(yàn)室、車(chē)間和生產(chǎn)線上的質(zhì)量管理。測(cè)量頭提供空前的重復(fù)性，設(shè)計(jì)堅(jiān)固緊湊、免維護(hù)，適用于在線測(cè)量。產(chǎn)品特點(diǎn)：MEMS、硅梁、透明薄材料的非接觸高精度厚度測(cè)量；納米級(jí)分辨率；手動(dòng)或自動(dòng)測(cè)量步驟設(shè)計(jì)，簡(jiǎn)單易用；不受溫度變化和熱效應(yīng)的影響；極佳的重復(fù)性；可配備表面輪廓測(cè)量。技術(shù)參數(shù)：厚度分辨率（nm） 1探針大小 （μm） 約150（可定制）厚度范圍 （μm） 0.1-600儀器尺寸 （mm） 320x320x380重量 （kg） 120晶圓夾具 定制，可達(dá)30cm 全自動(dòng)測(cè)量標(biāo)準(zhǔn)或定制的軟件包

品牌： 德國(guó)BMT 型號(hào)： WLI Lab 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

德國(guó)BMT WLI Lab 白光干涉儀德國(guó)BMT WLI Lab 白光干涉儀可準(zhǔn)確快速測(cè)量表面輪廓、粗糙度參數(shù)、臺(tái)階高度及其他各種表面參數(shù)，具有穩(wěn)定性高，設(shè)計(jì)堅(jiān)固和易于操作的特點(diǎn)。LED光源的應(yīng)用使得在即使是很微弱的反射表面上也可進(jìn)行測(cè)量。專為電子、汽車(chē)、工程工業(yè)、研究所而特別研發(fā)。主要用途： ........◆ 粗糙和光滑表面的顯微測(cè)量◆ 產(chǎn)品凸凹結(jié)構(gòu)圖◆ 可根據(jù)特殊用途定制主要特點(diǎn)：◆粗糙和光滑表面的顯微測(cè)量；◆數(shù)秒內(nèi)快速測(cè)量；◆快速更換被測(cè)物；◆測(cè)量結(jié)果不受樣品的顏色和材料影響；◆產(chǎn)品堅(jiān)固耐用。技術(shù)數(shù)據(jù)：◆光源: LED（多個(gè)）◆垂直分辨率（nm） 0.1◆焦距，大約（mm) 15◆圖像尺寸（像素） 1400×1000移動(dòng)平臺(tái)◆X、Y、Z軸（mm） 50～300或更大◆步長(zhǎng)（μm） 1◆平直度/100mm 約1μm冷軋和拉絲不銹鋼表面的顯微測(cè)量和特性描述

品牌： 德國(guó)BMT 型號(hào)： WLIRING 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLIRing 測(cè)量系統(tǒng)用于快速準(zhǔn)確測(cè)量圓柱形工件的表面形貌，計(jì)算粗糙度參數(shù)，微觀結(jié)構(gòu)，及外壁表面特征。WLI Ring 產(chǎn)品特點(diǎn)● 對(duì)內(nèi)外壁都可進(jìn)行測(cè)量；● 光滑粗糙表面都可進(jìn)行測(cè)量；● 測(cè)量結(jié)果不受工件的顏色和材料影響；● 數(shù)秒內(nèi)快速測(cè)量；● 用于在線測(cè)量的OEM測(cè)量頭。技術(shù)參數(shù)測(cè)量頭光源： LED垂直分辨率（nm）： 1水平分辨率（μm）：≥1焦距，大約（mm)： 1測(cè)量區(qū)域的尺寸： 由物體決定圖像尺寸（Pixel）： 1000 ×1000

品牌： 德國(guó)BMT 型號(hào)： WLI LA 產(chǎn)地：德國(guó) 供應(yīng)商：佰匯興業(yè)（北京）科技有限公司

WLI LA 白光干涉儀德國(guó)BMT WLI LA 白光干涉儀比使用顯微物鏡的設(shè)備可測(cè)面積大得多，同時(shí)具有非常高的數(shù)值孔徑。非常適于平整度測(cè)量。特點(diǎn)：● 表面輪廓和平整度測(cè)量；● 粗糙和光滑表面均可測(cè)量；● 測(cè)量不受顏色和材料影響；● 數(shù)秒內(nèi)完成測(cè)量；● 測(cè)量范圍大。技術(shù)參數(shù)：適用于較大面積平面的表面結(jié)構(gòu)形狀測(cè)量測(cè)量頭● 光源 LED● 測(cè)量范圍 （μm) 100/150● 垂直分辨率（nm） ≥1● 橫向分辨率（μm） 30● 測(cè)量面積 （mm） 14×10● 工作距離 （mm) 24● 數(shù)碼相機(jī)＜14位（Pixel） 1392×1040

白光干涉測(cè)厚儀 儀器網(wǎng)白光干涉測(cè)厚儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專場(chǎng)為您提供白光干涉測(cè)厚儀功能原理、規(guī)格型號(hào)、性能參數(shù)、產(chǎn)品價(jià)格、詳細(xì)產(chǎn)品圖片以及廠商聯(lián)系方式等實(shí)用信息，您可以通過(guò)設(shè)置不同查詢條件，選擇滿足您實(shí)際需求的白光干涉測(cè)厚儀產(chǎn)品，同時(shí)白光干涉測(cè)厚儀產(chǎn)品導(dǎo)購(gòu)專場(chǎng)還為您提供精品優(yōu)選白光干涉測(cè)厚儀產(chǎn)品和白光干涉測(cè)厚儀相關(guān)技術(shù)資料、解決方案、招標(biāo)采購(gòu)等綜合信息。