上海光學(xué)儀器廠,曾經(jīng)為發(fā)展民族工業(yè),填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白,奠定了國(guó)家光學(xué)工業(yè)的系列化, 并先后與德國(guó)蔡司-歐波同(ZEISS-OPTON)、徠卡(LEICA)等國(guó)際著名光學(xué)公司合作生產(chǎn)各類(lèi)精密光學(xué)儀器。
夏普新的下一代微芯片顯微鏡
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摩爾定律,幾乎沒(méi)有一個(gè)法律,但不可否認(rèn)的一個(gè)持久的趨勢(shì),他說(shuō),每一年半的時(shí)間,適合在一個(gè)芯片上的晶體管數(shù)量大約增加一倍。這是為什么電子產(chǎn)品 從智能手機(jī)到平板顯示器,MP4播放器,電影攝影機(jī),從片到超級(jí)計(jì)算機(jī) 成長(zhǎng)比以往任何時(shí)候都更加多樣,功能強(qiáng)大,結(jié)構(gòu)緊湊,但也比以往任何時(shí)候都更便宜。無(wú)論對(duì)一成不變的法律性質(zhì),直到它運(yùn)行的趨勢(shì)能夠繼續(xù),像一個(gè)原子的有限大小,取決于多遠(yuǎn)的科學(xué)家和技術(shù)人員可以推電子技術(shù)進(jìn)入納米世界更好的工具使用短波長(zhǎng)的光。
現(xiàn)在在美國(guó)能源部勞倫斯伯克利國(guó)家實(shí)驗(yàn)室(伯克利實(shí)驗(yàn)室)部的科學(xué)家合作,在全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商,以創(chuàng)建世界上最先進(jìn)的極紫外光(EUV)顯微鏡與同事。夏普(簡(jiǎn)潔的縮寫(xiě)為一個(gè)長(zhǎng)的名字,高鈉光化性半導(dǎo)體光罩審查項(xiàng)目),新的顯微鏡將致力于光刻,建立在計(jì)算機(jī)芯片的核心過(guò)程。
$ 4.1萬(wàn),1.5年的項(xiàng)目將率??領(lǐng)由午戈德堡X射線光學(xué)中心(CXRO)在伯克利實(shí)驗(yàn)室材料科學(xué)部(MSD)。最初夏普將在伯克利實(shí)驗(yàn)室的先進(jìn)光源(ALS)的現(xiàn)有顯微鏡的光束11.3.2使用并行操作。到了2012年最后一個(gè)季度新EUV光罩成像顯微鏡將取代光束線的設(shè)施老化。
“EUV光源是棘手的工作,”戈德堡說(shuō),“因?yàn)槊恳粋€(gè)物質(zhì)吸收如此強(qiáng)烈。所以EUV技術(shù),而不是玻璃鏡片,光學(xué)系統(tǒng)主要是依靠專(zhuān)門(mén)鏡與原子尺度的平整度,淋上由多層膜高反射率,“為了保持效率,整個(gè)光學(xué)系統(tǒng)被放置在一個(gè)高真空環(huán)境。
雖然被稱(chēng)為在臺(tái)協(xié)會(huì)(光化檢查工具),現(xiàn)有的8歲的顯微鏡11.3.2在光束線,具有獨(dú)特的成像能力,半導(dǎo)體技術(shù)的快速移動(dòng)性是指它的未來(lái)是有限的。夏普將超過(guò)它的性能,在每個(gè)指標(biāo):分辨率,速度,照度均勻性和一致性,控制。夏普將使前瞻性研究幾年前成為商業(yè)工具。
在短短幾年內(nèi),半導(dǎo)體器件,將測(cè)得在16,11,或8納米的尺寸,僅僅一米的十億分。大規(guī)模生產(chǎn)這些產(chǎn)業(yè)是推動(dòng)光刻過(guò)程中使用EUV光波長(zhǎng)僅為13.5納米,比可見(jiàn)光的40倍。
“戈德堡說(shuō),”在這個(gè)短的波長(zhǎng),我們可以打印和圖像在納米尺度的電路圖案。 “新的顯微鏡將充分利用多年的尖端EUV和軟- X射線顯微鏡的經(jīng)驗(yàn),實(shí)驗(yàn)系統(tǒng)在CXRO工程和EUV光學(xué)專(zhuān)業(yè)知識(shí)的光刻技術(shù)研究計(jì)劃的一部分的發(fā)展?!备甑卤ふf(shuō),ALS,世界上最優(yōu)秀的EUV光的來(lái)源之一,“是一個(gè)偉大的地方發(fā)展EUV光刻技術(shù)?!?br> 光掩膜光刻技術(shù),是大規(guī)模生產(chǎn)的關(guān)鍵。一系列光罩進(jìn)行主電路模式,轉(zhuǎn)移到一個(gè)芯片上,一層又一層,創(chuàng)建工作的半導(dǎo)體器件。面具是類(lèi)似于在一個(gè)攝影師的暗房,或一臺(tái)復(fù)印機(jī)上的母版頁(yè)的底片。
分鐘的不完善或主微小的塵埃顆粒,如果沒(méi)有找到,并清洗或修復(fù),最終導(dǎo)致芯片的失敗。 Goldberg和他的團(tuán)隊(duì)已經(jīng)表明,缺陷和模式時(shí),可能會(huì)出現(xiàn)很大的不同看作非EUV技術(shù)檢查工具,如電子顯微鏡,極紫外顯微鏡必不可少的EUV技術(shù)口罩的發(fā)展,因?yàn)橹挥羞@樣,才能有害的塵埃粒子和其他缺陷確定可靠。
“其他顯微鏡可以有奇妙的高分辨率,但他們無(wú)法檢測(cè)到的特定波長(zhǎng)的EUV技術(shù)的面具圖案和缺陷的回應(yīng),”戈德堡說(shuō),“并成功維修,這是必要的。”
夏普被稱(chēng)為“光化”顯微鏡,因?yàn)樗褂孟嗤腅UV技術(shù)在生產(chǎn)中使用的波長(zhǎng)。因此,新的EUV顯微鏡將使半導(dǎo)體公司的研究人員更好地評(píng)估缺陷和修復(fù)策略,面具的材料和架構(gòu),以及先進(jìn)的模式特征。
像它的前身,夏普顯微鏡也將采用一個(gè)鏡頭,并排數(shù)組,使用戶可以選擇他們所需要的不同的成像特性,就像一個(gè)共同的實(shí)驗(yàn)室的顯微鏡安裝在一個(gè)旋轉(zhuǎn)的炮塔不同的鏡頭。
新的顯微鏡高倍率物鏡的全息菲涅爾zoneplate鏡片,CXRO的Nanowriter生產(chǎn)的微觀物體。 Nanowriter,埃里克安德森的指導(dǎo)下,擁有世界紀(jì)錄,創(chuàng)造了許多同步和其他短波應(yīng)用的最高分辨率zoneplates。鏡頭僅略高于一根頭發(fā)廣泛,但他們的項(xiàng)目高達(dá)2000倍的放大倍率的面膜表面的高品質(zhì)圖像。
一個(gè)新的顯微鏡的特殊功能,將照明一致性控制。 ALS的生產(chǎn)的EUV束激光般的連貫性,許多實(shí)驗(yàn)的理想選擇。然而,顯微鏡,可提高圖像分辨率仔細(xì)重整進(jìn)入狀態(tài)稱(chēng)為部分相干照明由兩個(gè)因素。顯微鏡多年來(lái)已經(jīng)認(rèn)識(shí)到了部分相干的重要性,并同步社區(qū)現(xiàn)在趕上。
在新的顯微鏡的光束照明的角度,掃描鏡將采取高度相干的ALS光,并帶領(lǐng)模式,像一個(gè)微型激光燈光表演,打破和重新塑造的連貫性屬性。這樣,夏普顯微鏡將復(fù)制當(dāng)前和未來(lái)的光刻技術(shù)的生產(chǎn)和研究工具的屬性,讓研究人員在最先進(jìn)的看什么來(lái)。