上海光學(xué)儀器廠，曾經(jīng)為發(fā)展民族工業(yè)，填補(bǔ)國(guó)內(nèi)空白，奠定了國(guó)家光學(xué)工業(yè)的系列化， 并先后與德國(guó)蔡司-歐波同（ZEISS-OPTON）、徠卡（LEICA）等國(guó)際著名光學(xué)公司合作生產(chǎn)各類(lèi)精密光學(xué)儀器。

數(shù)顯立式光學(xué)計(jì)JDG-S2是以直接法或比較法測(cè)量工件的尺寸。它可對(duì)五等量塊、量棒、鋼球、線形及平行平面狀精密量具和零件的外型尺寸作精密測(cè)量。本儀器頭部亦可作為一個(gè)獨(dú)立體，在科研、生產(chǎn)過(guò)程控制及在線檢測(cè) 等方面，對(duì)被測(cè)件作位移測(cè)量，是檢測(cè)部門(mén)常用的計(jì)量?jī)x器。

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光切法顯微鏡9J是以光切法測(cè)量零件加工表面的微觀不平度。其能判別國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB1031-1995所規(guī)定測(cè)量范圍1.0～80微米即原標(biāo)準(zhǔn)▽3-▽9級(jí)表面光潔度。對(duì)于表面劃痕、刻線或某些缺陷的深度也可用來(lái)進(jìn)行測(cè)量。光切法特點(diǎn)是在不破壞表面的狀況下進(jìn)行的。是一種間接測(cè)量方法。

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光譜投影儀8W為攝譜儀成套設(shè)備之一，主要用于對(duì)攝譜儀所攝下之光譜底板通過(guò)投影放大，與標(biāo)準(zhǔn)譜板或已知濃度的光譜進(jìn)行定性或半定量分析。也可作為一般投影放大用。原理光源發(fā)出的光線被反射鏡、聚光鏡射至底板上，照明了直徑為15毫米的面積。聚光鏡光路由鍍鋁的平面反射鏡折轉(zhuǎn)55°。

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干涉顯微鏡6JA是用來(lái)測(cè)量精密加工零件（平面、圓柱等外表面）光潔度的儀器，也可以用來(lái)測(cè)量零件表面刻線，鍍層等深度。儀器配以各種附件，還能測(cè)量粒狀，加工紋路混亂的表面，低反射率的工件表面，同時(shí)還能將儀器安置在工件上，對(duì)大型工件表面進(jìn)行測(cè)量。

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測(cè)微光度計(jì)9W是攝譜儀器的成套設(shè)備之一。測(cè)微光度計(jì)又名顯微光度計(jì)或黑度計(jì)，主要用途是對(duì)各種攝譜儀所攝下之譜片進(jìn)行黑度測(cè)量，以確定被測(cè)元素的含量完成光譜定量分析工作。還可用于照相膜層之密度檢查和感光能力檢查，以及配合其它光學(xué)儀器作象差測(cè)量等。

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