2017年8月10日，由PHI-China高德英特（北京）科技有限公司主辦的“ULVAC-PHI表面分析應(yīng)用與技術(shù)用戶會(huì)”于汕頭大學(xué)圓滿結(jié)束。此次會(huì)議有清華大學(xué)、南京大學(xué)等國(guó)內(nèi)各高校相關(guān)專業(yè)的多位老師與專家及學(xué)生參加.

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會(huì)議開(kāi)始，PHI（China）的執(zhí)行總監(jiān)葉上遠(yuǎn)先生首先致辭，歡迎全國(guó)從事表面分析研究與分析的新老朋友共聚一堂，共同探討XPS的前沿發(fā)展、分享最新應(yīng)用、使用儀器的心得。隨后就PHI XPS粉末微區(qū)分析表征上的最新研發(fā)進(jìn)展做了詳細(xì)的報(bào)告，并對(duì)“IPES 反光電子能譜UPS聯(lián)用的應(yīng)用”和“ULVAC-PHI 儀器多種聯(lián)用技術(shù)”分別做了專題報(bào)告，得到了與會(huì)者的一致認(rèn)可。 此外，此次會(huì)議還特邀臺(tái)灣中央研究院薛景中先生就“Ion gun co-sputtering XPS Applications X” 做了相關(guān)專題報(bào)告及學(xué)術(shù)探討。

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作為嘉賓的ULVAC-PHI 亞洲區(qū)銷售經(jīng)理 Mr. Takuji Shibasaki 柴崎琢自先生就如何進(jìn)行更好使用 “ULVAC-PHI Ellipsometer 橢偏儀”進(jìn)行詳細(xì)介紹和說(shuō)明。另一位嘉賓ULVAC-PHI原廠科學(xué)家張熏勻博士則對(duì)“Tof-SIMS 最新材料應(yīng)用”相關(guān)研究進(jìn)展做了細(xì)致詳盡的講解；并與會(huì)者分享“ XPS和AES數(shù)據(jù)處理技巧”，同時(shí)就大家一些問(wèn)題做了熱烈、充分的討論。

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與會(huì)者一致認(rèn)為，通過(guò)此次用戶會(huì)，對(duì)PHI公司及其產(chǎn)品有了更加深入的認(rèn)識(shí)與了解，對(duì)科研過(guò)程中碰到的一些問(wèn)題也有了新的思路與方法。 我們也感謝各位與會(huì)者的參與和支持，希望通過(guò)用戶交流會(huì)，為原廠、用戶和學(xué)校及科研機(jī)構(gòu)搭建的技術(shù)交流和共享平臺(tái)，在此平臺(tái)中，老師們對(duì)相關(guān)領(lǐng)域的探討碰撞出更多的思維火花，并能在以后的科研中取得更多的新成果。 PHI與XPS研究者共同進(jìn)步！