光化學(xué)反應(yīng)儀主要用于研究氣相或液相介質(zhì)、固定或流動(dòng)體系、紫外光或模擬可見光照、以及反應(yīng)容器是否負(fù)載TiO2光催化劑等條件下的光化學(xué)反應(yīng)。具有提供分析反應(yīng)產(chǎn)物和自由基的樣品，測(cè)定反應(yīng)動(dòng)力學(xué)常數(shù)，測(cè)定量子產(chǎn)率等功能，廣泛應(yīng)用化學(xué)合成、環(huán)境保護(hù)以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域
光化學(xué)、干膜、曝光及顯影制程術(shù)語(yǔ)手冊(cè)1、Absorption 領(lǐng)受，吸入
指被領(lǐng)受物會(huì)進(jìn)入主體的內(nèi)部，是一種化學(xué)式的吸入步履。如光化反映中的光能領(lǐng)受，或板材與綠漆對(duì)溶劑的吸入等。還有一近似詞 Adsorption 則是指吸附而言，只附著在主體的概略，是一種物理式的親和吸附。
2、Actinic Light(or Intensity，or Radiation) 有用光
指用以完成光化反映各類光線中，其Z有用波長(zhǎng)規(guī)模的光而言。例如在360～420 nm 波長(zhǎng)規(guī)模的光，對(duì)偶氮棕片、淺顯吵嘴底片及重鉻酸鹽感光膜等，其等反映均Z快Z且功用Z大，謂之有用光。
3、Acutance 解像尖銳度
是指各類由感光編制所取得的圖像，其線條邊緣的尖銳景象抽象 (Sharpness)，此與解像度 Resolution 不合。后者是指在必定寬度距離中，可以了了的顯像(Develope)解出若干良多多少組 線對(duì) 而言(Line Pair，系指一條線路及一個(gè)空間的組合)，普簡(jiǎn)易稱只說解出機(jī)條 線 而已。
4、Adhesion Promotor 附出力增進(jìn)劑
多指干膜中所添加的某些化學(xué)品，能促使其與銅面發(fā)生 化學(xué)鍵 ，而增進(jìn)其與底材間之附出力者皆謂之。
5、Binder 粘結(jié)劑
各類積層板中的接著樹脂部份，或干膜之阻劑中，所添加用以 成形 而不致太 散 的接著及組成劑類。
6、Blur Edge(Circle)恍惚邊帶，恍惚邊圈
多層板各內(nèi)層孔環(huán)與孔位之間在做瞄準(zhǔn)度搜檢時(shí)，可把持 X光透視法為之。由于X光之光源與其機(jī)組均非平行光之機(jī)關(guān)，故所得圓墊(Pad)之減少回憶，其邊緣之解像其實(shí)不明銳了了，稱為 Blur Edge。
7、Break Point 出像點(diǎn)，顯像點(diǎn)
指制程中已有干膜貼附的 在制板 ，于自動(dòng)保送線顯像室上下噴液中遏制顯像時(shí)，抵達(dá)其完成沖洗而閃現(xiàn)出了了圖形的 旅程點(diǎn) ，謂之 Break Point 。所經(jīng)歷過的沖洗旅程，以占顯像室長(zhǎng)度的 50~75% 之間為好，如斯可以使剩下旅途中的清水沖洗，更能增強(qiáng)斷根殘膜的成果。
8、Carbon Arc Lamp 碳弧燈
晚期電路板底片的翻制或版膜的分娩時(shí)，為其曝光所用的光源之一，是在中心迫近的碳精棒之間，施加高電壓而發(fā)生弧光的拆卸。
9、Clean Room 無塵室、潔凈室
是一個(gè)遭到賣力經(jīng)管及精采把握的房間，其溫度、濕度、壓力都可加以調(diào)劑，且氣氛中的塵埃及臭氣已予以消弭，為半導(dǎo)體及細(xì)線電路板分娩制造必需的景象抽象。淺顯 潔凈度 的表達(dá)，是以每 立方呎 的氣氛中，含有大于0.5 m以上的塵粒數(shù)目，做為分級(jí)的尺度，又為儉仆成本起見，常只在使命臺(tái)面上設(shè)置部門無塵的景象抽象，以嘗試必需的使命，稱 Clean Benches。
10、Collimated Light 平行光
以感光法遏制回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，為添加底片與板面間，在圖案上的變形走樣起見，應(yīng)采納平行光遏制曝光制程。這類平行光是經(jīng)由屢次反射折射，而取得低熱量且近似平行的光源，稱為Collimated Light，為細(xì)線路建筑必需的裝備。由于垂直于板面的平行光，對(duì)板面或景象抽象中的少許塵埃都很是緩慢，常會(huì)忠誠(chéng)的暗示在所曬出的回憶上，構(gòu)成許多額定的漏洞錯(cuò)誤，反不如淺顯散射或漫射光源可以也許自彼此補(bǔ)而消彌，故采納平行光時(shí)，必需還要無塵室的合營(yíng)才行。此時(shí)底片與待曝光的板面之間，已無需再做抽真空的密接(Close Contact)，而可間接使用較嚴(yán)重的 Soft Contact或Off Contact了。
11、Conformity吻合性，服貼性
完成零件壞配的板子， 為使整片板子外形遭到賣力的呵護(hù)起見，再以絕緣性的涂料予以封護(hù)涂裝，使有更好的信賴性。淺顯軍用或較高條理的拆卸板，才會(huì)用到這類外形貼護(hù)層。
12、Declination Angle 斜射角
由光源所間接射下的光線，或經(jīng)各類折射反射過程后，再行射下的光線中，凡閃現(xiàn)不垂直射在受光面上，而與 垂直法線 呈某一斜角者(即圖中之 a角)該斜角即稱 Declination Angle。當(dāng)此斜光打在干膜阻劑邊緣所組成的 小孔相機(jī) 并經(jīng) Mylar 折光下，會(huì)泛起另外一 平行光 之半角(Collimation HalfAngle，CHA)。但凡 細(xì)線路 曝光所邃密精彩的 高平行度 的曝光機(jī)時(shí)，其所呈的 斜射角 應(yīng)小于 1.5 度，其 平行半角 也須小于 1.5 度。
13、Definition 邊緣傳神度
在以感光法或印刷法遏制圖形或回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，所取得的下一代圖案，其線路或各導(dǎo)體的邊緣，是不是能泛起齊直而又忠于原底片之外形，稱為 邊緣齊直性 或傳神度 Definition 。
14、Densitomer 透光度計(jì)
是一種對(duì)吵嘴底片之透光度(Dmin)或遮光度(Dmax)遏制丈量之儀器，以搜檢該底片之劣化水平若何。其經(jīng)常使用的品牌如 X-Rite 369 等于。
15、Developer 顯像液，顯影液，顯像機(jī)
用以沖洗掉未感光聚合的膜層，而留下已感光聚合的阻劑層圖案，其所用的化學(xué)品溶液稱為顯像液,如干膜制程所用的碳酸鈉(1％)溶液等于。
16、Developing 顯像，顯影
是指感光回憶轉(zhuǎn)移過程中，由母片翻制子片時(shí)稱為顯影。但對(duì)下一代像片或干膜圖案的閃現(xiàn)作業(yè)，則應(yīng)稱為 顯像 。既然是由底片上的 影 轉(zhuǎn)移成為板面的 像 ，雖然就該當(dāng)稱為 顯像 ，而不宜再續(xù)稱底片階段的 顯影 ，這是淺而易見的事理。可是業(yè)界積非成是習(xí)用已久，一時(shí)興不茍且更正。日文則稱此為 現(xiàn)像 。
17、Diazo Film 偶氮棕片
是一種有棕色阻光膜的底片，為干膜回憶轉(zhuǎn)移時(shí)，在紫外光中公用的曝光用具(Phototool)。這類偶氮片即使在棕色的遮光區(qū),也能在 可見光 中透視現(xiàn)實(shí)片下的板面景象抽象，比吵嘴底片要便當(dāng)?shù)亩唷?br>18、Dry Film 干膜
是一種做為電路板回憶轉(zhuǎn)移用的干性感光薄膜阻劑,還有 PE 及 PET 兩層皮膜將之夾心呵護(hù)?，F(xiàn)場(chǎng)施工時(shí)可將 PE 的隔離層撕掉，讓中心的感光阻劑膜壓貼在板子的銅面上,在經(jīng)由底片感光后即可再撕掉 PET 的表護(hù)膜，遏制沖洗顯像而組成線路圖形的部門阻劑，進(jìn)而可再嘗試蝕刻(內(nèi)層)或電鍍(外層)制程，Z初在蝕銅及剝膜后，即取得有裸銅線路的板面。
19、Emulsion Side藥膜面
吵嘴底片或 Diazo 棕色底片，在 Mylar 通明片基 ( 經(jīng)常使用者有 4 mil 與7 mil 兩種)的一個(gè)概略上涂有薄的感光乳膠(Emulsion) 層，做為回憶轉(zhuǎn)移的前言對(duì)象。當(dāng)從已有圖案的母片要翻照出 光性 相反的子片時(shí)，必需謹(jǐn)遵 藥面貼藥面 ( Emulsion to Emulsion ) 的基來歷根抵則，以消弭因片基厚度而泛起的折光，添加更生畫面的變形走樣。
20、Exposure 曝光
把持紫外線(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物資遏制光化學(xué)反映，以抵達(dá)遴選性部門架橋軟化的成果，完成回憶轉(zhuǎn)移的手段稱為曝光。
21、Foot 殘足
指干膜在顯像今后部份決計(jì)留下阻劑，其根部與銅面接觸的死角處，在顯像時(shí)不茍且沖洗干凈而殘留的余角(Fillet)，稱為Foot或Cove。當(dāng)干膜太厚或曝光能量貧乏時(shí)，常會(huì)泛起殘足，將對(duì)線寬構(gòu)成影響。
22、Halation環(huán)暈
指曝光制程中領(lǐng)受光照之圖案概略，其外緣常組成明暗之間的環(huán)暈。成因是光線穿過半通明之被照體而抵達(dá)另外一面，受反射折光回到背面來，即泛起混沌不清的邊緣地帶。
23、Half Angle 半角
此詞的正式稱號(hào)是 Collimation Half Angle 平行光半角 。 是指曝光機(jī)所射下的 斜光 ，抵達(dá)底片上回憶圖案的邊緣，由此 邊緣 所發(fā)生 小孔拍照機(jī) 效應(yīng)，而將 斜光 擴(kuò)大成 發(fā)散光 其擴(kuò)大角度的一半，謂之 平行光半角 (CHA)，簡(jiǎn)稱 半角 。
24、Holding Time 停置時(shí)辰
當(dāng)干膜在板子銅面上完成壓膜步履后，需停置 15～30 分鐘，使膜層與銅面之間發(fā)生更強(qiáng)的附出力；而經(jīng)曝光后也要再停置 15～30 分鐘，讓已感光的部份膜體，延續(xù)遏制的架橋聚合反映，以便耐得住顯像液的沖洗，此兩者皆謂之 停置時(shí)辰 。