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2020-05-08 第四屆“表面分析技術(shù)應(yīng)用論壇——表面分析技術(shù)在新材料研究中的應(yīng)用”暨“表面化學(xué)分析國家標(biāo)準(zhǔn)宣貫會” 【摘要】
結(jié)合絕緣樣品和薄膜樣品XPS分析中的特點，解讀國家標(biāo)準(zhǔn)GB/T 25185-2010表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 荷電控制和荷電校正方法的報告，GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜薄膜分析結(jié)果的報告，GB/T 25188-2010硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法。
