2021年1月19日，晶瑞股份ArF浸沒式光刻機順利搬入實驗室。公司核心管理層、光刻膠核心團隊、業(yè)務伙伴代表及媒體代表參加了搬入慶祝儀式。

為開展集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目，晶瑞股份于2020年10月順利購得ASML XT 1900 Gi型浸入式光刻機一臺，可用于研發(fā)最高分辨率達28nm的高端光刻膠。該設備于2020年11月19日從原廠斷電停機，于2021年1月19日運抵蘇州并成功搬入公司高端光刻膠研發(fā)實驗室。

晶瑞團隊對內(nèi)目標一致、上下同欲，對外多方協(xié)商、積極運作，歷時短短2個多月完成了光刻機的順利搬入，充分體現(xiàn)了晶瑞團隊的凝聚力和高效執(zhí)行力。

目前公司完成中試的KrF光刻膠已進入客戶測試階段，達到0.15μm的分辨率。本次光刻機的順利入駐可以保障公司集成電路制造用高端光刻膠研發(fā)項目關(guān)鍵設備的技術(shù)先進性，對加快產(chǎn)品研發(fā)項目進度有積極影響，有助于公司將光刻膠產(chǎn)品序列實現(xiàn)到 ArF 光刻膠的跨越，并最終實現(xiàn)應用于 12 英寸芯片制造的戰(zhàn)略布局。有利于進一步提升公司光刻膠產(chǎn)品的核心競爭力，對于提高公司可持續(xù)發(fā)展能力具有重大意義。

[來源：晶瑞股份] ASML光刻膠晶瑞股份ArF光刻機