改進(jìn)的HARPIA具有時(shí)髦緊湊的設(shè)計(jì),更直觀的客戶體驗(yàn)以及便捷的日常維護(hù)。得益于ORPHEUS裝置生產(chǎn)線的標(biāo)準(zhǔn),整個(gè)光譜系統(tǒng)被包含在一個(gè)單一的鋁盒中,這能夠確保極好的光學(xué)穩(wěn)定性和相互作用光束最小的光程差。和其前身對(duì)比,此裝置的尺寸規(guī)格大大的減少—面積減少了約2.6倍,而體積減少了約4倍
瞬態(tài)吸收泵浦探測(cè)(Pump-probe)光譜儀
改進(jìn)的HARPIA具有時(shí)髦緊湊的設(shè)計(jì),更直觀的客戶體驗(yàn)以及便捷的日常維護(hù)。得益于ORPHEUS裝置生產(chǎn)線的標(biāo)準(zhǔn),整個(gè)光譜系統(tǒng)被包含在一個(gè)單一的鋁盒中,這能夠確保極好的光學(xué)穩(wěn)定性和相互作用光束最小的光程差。和其前身對(duì)比,此裝置的尺寸規(guī)格大大的減少 面積減少了約2.6倍,而體積減少了約4倍。新的Harpia能夠很好的和PHAROS / ORPHEUS以及Ti:Sapph / TOPAS激光系統(tǒng)結(jié)合使用。和其前身一樣,它突顯市場(chǎng)主要特征例如和其他獨(dú)特的功能如高重復(fù)頻率(最大到1MHz)這需要搭配PHAROS / ORPHEUS系統(tǒng)可以達(dá)到10-5可分辨信號(hào)。高重復(fù)頻率能夠以極低的單脈沖能量來(lái)激發(fā)樣品并測(cè)量瞬態(tài)吸收動(dòng)力學(xué)(從而避免能量傳輸系統(tǒng)和非線性載體復(fù)合半導(dǎo)體/納米顆粒樣品的激子湮滅效應(yīng))。
瞬態(tài)吸收泵浦探測(cè)(Pump-probe)光譜儀
許多探測(cè)配置和檢測(cè)選項(xiàng)可以從簡(jiǎn)單低成本的探測(cè)單一波長(zhǎng)的二極管到利用白光超連續(xù)泵浦光譜分辨的寬波帶探測(cè)裝置。數(shù)據(jù)采集和測(cè)量控制現(xiàn)在是集成在HARPIA自身裝置中,改進(jìn)的探測(cè)功能如:
■單一(僅樣品)或多種(樣品和參考)集合的光譜探測(cè)器
■和用戶喜歡的外部光譜儀集成方便
■光斑監(jiān)測(cè)和自校準(zhǔn)能力(都是沿著泵浦探測(cè)光束的光學(xué)路徑和樣品平面)以及可選擇的光束自調(diào)整
■瞬態(tài)吸收和瞬態(tài)反射測(cè)量的自由切換
■能夠很好地將瞬態(tài)吸收和Z掃描實(shí)驗(yàn)結(jié)合在同一個(gè)裝置
而且不同延遲線選項(xiàng)可以選擇從2ns(標(biāo)準(zhǔn))到4ns覆蓋的延遲窗口同時(shí)HARPIA包含標(biāo)準(zhǔn)的線性絲杠(20mm/s0)或者快速滾珠絲杠(300mm/s)光學(xué)延遲平臺(tái)。
瞬態(tài)吸收泵浦探測(cè)(Pump-probe)光譜儀
許多光機(jī)的外部設(shè)備現(xiàn)在全部封裝在HARPIA機(jī)盒中,包含:
■光學(xué)斬波器,既能和多種不同頻率激光系統(tǒng)進(jìn)行相位鎖定,也能在內(nèi)部參考裝置中自由運(yùn)行
■自動(dòng)校準(zhǔn)的Berek偏振補(bǔ)償器能夠自動(dòng)的調(diào)整泵浦光的偏振方向(可選)
■自動(dòng)橫向可翻轉(zhuǎn)的超連續(xù)光光譜發(fā)生器(適用于安全穩(wěn)定的超連續(xù)光譜發(fā)生器的材質(zhì)是CaF2或者M(jìn)gF2;可選)
■自動(dòng)取樣光柵掃描儀能夠在泵浦和探測(cè)光的焦平面上傳送樣品,因此可以很好的避免樣品的過(guò)度曝光(可選)
而且,新的HARPIA為了和用戶喜愛的低溫恒溫或者蠕動(dòng)泵浦系統(tǒng)兼容而設(shè)計(jì)的。(詳見安裝示意圖)
新的改善的客戶應(yīng)用程序具有實(shí)驗(yàn)導(dǎo)向,測(cè)量預(yù)設(shè)和特定應(yīng)用的開發(fā)包。除了實(shí)驗(yàn)自動(dòng)化軟件,HARPIA包含數(shù)據(jù)分析包CarpetView來(lái)檢查獲得的數(shù)據(jù),進(jìn)行全球和目標(biāo)分析,探測(cè)色散補(bǔ)償,指數(shù)擬合等。軟件包具有直觀用戶友好的使用界面。此軟件提供給了數(shù)據(jù)分析指導(dǎo),實(shí)現(xiàn)從原始數(shù)據(jù)到高質(zhì)量圖像和基于參數(shù)模擬模型的無(wú)縫轉(zhuǎn)換。所有的軟件都可以在MS Windows下運(yùn)行,而且很容易使用。即使是新手在幾天時(shí)間內(nèi)也能成為分析專家。
泵浦探測(cè)技術(shù)參數(shù)
參量
數(shù)值
光學(xué)元件支持的探測(cè)波長(zhǎng)范圍
240 2600nm
探測(cè)波長(zhǎng)范圍,超連續(xù)白光,1030nm泵浦
350 750nm, 480 1100nm
探測(cè)波長(zhǎng)范圍,超連續(xù)白光,800nm泵浦
350-1100nm
探測(cè)器的波長(zhǎng)范圍
200nm 1100nm, 700nm 1800nm, 1.2 m 2.6 m
光譜裝置的光譜范圍
180nm 24 m,通過(guò)選擇不同的光柵來(lái)實(shí)現(xiàn)
延遲范圍
1.7ns, 3.8ns, 7.8ns
延遲分辨率/最小步長(zhǎng)
16.67/2.08fs,33.3/4.16fs,66.7/8.32 fs
噪聲水平-單波長(zhǎng)1)
10-5 (假設(shè)每個(gè)點(diǎn)平均積分時(shí)間2s)
噪聲水平-多通道探測(cè)2)
2 10-5 (假設(shè)每個(gè)光譜平均積分時(shí)間5s)
激光重復(fù)頻率
1 1000 kHz (數(shù)位化頻率 2 kHz)
時(shí)間分辨率
1.4 x泵浦或者探測(cè)光脈沖寬度(取兩者之中脈寬較長(zhǎng)者)
尺寸
420mm(W) 730mm(L) 160mm(H)
測(cè)試條件:Pharos激光運(yùn)行在80kHz,泵浦源:Orpheus@480nm;探測(cè)源 1b,光譜儀 3d,探測(cè)器 2a-a.該標(biāo)準(zhǔn)差是在固定時(shí)間延遲下100次測(cè)量的平均值。不代表任意激光和任意樣品都適用。
測(cè)試條件:Pharos激光運(yùn)行在64kHz,泵浦源:Orpheus@480nm;探測(cè)源 1b,光譜儀 3d,探測(cè)器 2a-a.該標(biāo)準(zhǔn)差是在固定時(shí)間延遲下100次測(cè)量的平均值。使用的信號(hào)波長(zhǎng)在550nm.不代表任意激光和任意樣品都適用。
HARPIA optical layout
Off-the-Shelf Pump-Probe Spectrometer HARPIA
Cryostat mounting scheme
HARPIA outline drawings
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