AJA致力于研發(fā)生產(chǎn)薄膜沉積系統(tǒng)，包括磁控濺射系統(tǒng)，電子束蒸發(fā)系統(tǒng)，熱蒸發(fā)系統(tǒng)和離子束刻蝕系統(tǒng)。1989年William Hale在美國馬薩諸塞州創(chuàng)立了AJA這個品牌，開始是以物理氣相沉積產(chǎn)品供應(yīng)商問世。隨著越來越多的系統(tǒng)和磁控濺射源暢銷世界，AJA國際公司不斷突破自己，發(fā)現(xiàn)更多創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決方案。其中一些方案一直被模仿，但從未被超越。AJA始終保持著薄膜技術(shù)領(lǐng)域的前沿地位。

美國AJA公司中國區(qū)總代理--重慶眺望科技有限公司

AJA國際公司的ATC Flagship 系列濺射鍍膜系統(tǒng)，用途廣泛，可以通過不同的配置來實(shí)現(xiàn)不同的需求。

所有產(chǎn)品基于AJA獨(dú)有的A300-XP (UHV)超高真空或Stiletto 系列 (HV)高真空磁控濺射源，這些濺射源可以原位偏轉(zhuǎn)，因而可以實(shí)現(xiàn)精確的，可重復(fù)的共聚焦濺射沉積，直流濺射沉積，以及離軸濺射沉積。大型系統(tǒng)需要配備重型液壓起重機(jī)來打開腔體上蓋 上蓋搖臂到起重機(jī)zui大行程的兩側(cè)。中型或小型系統(tǒng)通過一個帶氣震裝置的鉸鏈來打開腔體。

以下系統(tǒng)腔室尺寸可供選擇：

? ATC 1800 (18"  ) 

? ATC 2200 (22"  )

? ATC 2600 (26"  )

基片架尺寸范圍，直徑1" -10" 不等，可加熱至1000 C和/或可從室溫冷卻至液氮溫度。磁控濺射源尺寸從1" -12"直徑不等，同時有矩形，三角形濺射源供選擇。

AJA公司的系統(tǒng)可以集成多種沉積方式，如電子束蒸發(fā)，熱蒸發(fā)，克努森蒸發(fā)池（分子束外延系統(tǒng)），脈沖激光沉積，離子束輔助沉積，對靶磁控濺射，光罩接觸系統(tǒng)，手套箱，自動批量裝載系統(tǒng)，RHEED, 俄歇分析系統(tǒng)，以及殘余氣體分析系統(tǒng)等。

可根據(jù)應(yīng)用需求配置基于Labview的電腦控制和渦輪分子泵或低溫泵。所有ATC系統(tǒng)之間是可連接的或者是和ATC Orion系統(tǒng)的多腔（例如，金屬氧化物）或多技術(shù)（例如，濺射蒸發(fā)PLD研磨）裝置連接。

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