上海伯東美國 KRI 考夫曼霍爾型離子源 EH 5500 成功應(yīng)用于手機殼顏色鍍膜和3D玻璃鍍膜, 湖南某知名手機鍍膜制造商經(jīng)過我司推薦采用大尺寸考夫曼離子源 EH 5500 安裝于生產(chǎn)設(shè)備 2050 mm 蒸鍍機中, 實現(xiàn) LED-DBR 離子輔助鍍膜.
考夫曼離子源客戶案例: 國內(nèi)某知名手機鍍膜制造商
1. 離子源應(yīng)用: 手機殼顏色鍍膜, 3D 玻璃鍍膜生產(chǎn).
2. 系統(tǒng)功能: 2050 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國考夫曼離子源 KRi EH 5500. 離子源 EH 5500 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界最高等級, 離子源 EH 5500 大尺寸的離子槍本體設(shè)計所產(chǎn)生超廣角的離子束涵蓋面積及高均勻度的離子濃度分布可以涵蓋 2050 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 (substrate holder), 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達到最高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過 KRI EH 5500 霍爾源實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的手機殼顏色鍍膜及 3D 玻璃鍍膜無論是環(huán)境脫膜測試, 耐刮測試, 膜層應(yīng)力測試等等 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.
上海伯東美國 KRI 霍爾離子源 EH 5500 優(yōu)點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
氣體分子離子轉(zhuǎn)化率高, 離子束工作穩(wěn)定
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計, 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動控制設(shè)計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易

  EH 5500 離子源本體

  EH 5500 離子源控制器
上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman Robinson, Inc  中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡(luò)方式：
上海伯東：葉女士  臺灣伯東：王女士
T: +86-21-5046-3511 ext 109  T: +886-03-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490  F: +886-03-567-0049
M: +86 1391-883-7267  M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn  ec@hakuto.com.tw
qq:2821409400