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KRI 離子源(KRI Ion Source ) eH 2000 系列:
KRI 離子源 eH 2000 是一款更強大的版本，帶有水冷方式，他具備 eH 1000 所有的性能，而且可以產生更高的離子束功率，適合更高的工藝等級和更大的系統。水冷方式有助于降低襯底溫度，可適用于塑膠襯底。
KRI 霍爾離子源 eH 2000 技術參數:
電話：+86-21-5046-3511
郵箱：ec@hakuto-vacuum.cn
地址：上海市浦東新區(qū)
新金橋路1888號36號樓7樓702室
201206
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