1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源 Gridded 和霍爾離子源 Gridless. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 30 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射沉積 IBSD 領域, 上海伯東是美國考夫曼離子源 (離子槍) 中國總代理.

霍爾離子源 Gridless 提供高電流低能量 end-Hall 系列產(chǎn)品,包含寬束霍爾離子源和電源控制器,整體設計,易于系統(tǒng)集成, 霍爾離子源典型應用：輔助鍍膜 IABD,鍍膜預清潔 ISSP,離子蝕刻等