First-Nano System GmbH 

2003年   創(chuàng)立于德國(guó)德累斯頓工業(yè)大學(xué)（Dresden University of Technology）

2008年 香港成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司 

2015年 上海成立德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國(guó)代表處，負(fù)責(zé)中國(guó)區(qū)業(yè)務(wù)

2018年  深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國(guó)南方區(qū)市場(chǎng)

德國(guó)韋氏納米系統(tǒng)成立以來(lái)，一直為客戶想的更多，Thinking more ?。。?/p>

產(chǎn)品范圍：

薄膜沉積/Thin Film Deposition 
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
其他/Other,
Device Testing System for Space Simulation, Heated Platens, Plasma Sources, Resist Stripping Systems

應(yīng)用領(lǐng)域：

離子注入/接觸退火；

快速熱處理(RTP)，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)，快速熱氮化(RTN)；

可在真空、惰性氣氛、氧氣、氫氣、混合氣等不同氣體氛圍環(huán)境下使用；

SiAu, SiAl, SiMo合金化；

低介電材料；

晶體化，致密化；

太陽(yáng)能電池片鍵合；

電阻燒結(jié)

其他熱工藝需求

等等...

產(chǎn)品特點(diǎn)：

- 真空快速退火爐，有RTP-100型號(hào)  低真空(10-3 hPa)

 RTP-100-HV  高真空(10-6 hPa)；

- 可應(yīng)用在不同氣氛環(huán)境下使用，如惰性氣體、氧氣、氫氮混合氣等；

- 控制方式：SPS人機(jī)界面控制，7英寸觸摸屏控制；

- 可存儲(chǔ)50個(gè)程序，每個(gè)程序最多分為50步驟控制；

- 全自動(dòng)智能控制，包括溫度、時(shí)間、氣體流量、真空度、冷卻水均可自動(dòng)設(shè)置；

- 優(yōu)異的溫控均勻性，極佳的工藝重復(fù)性；

技術(shù)規(guī)格：

- 最高溫度：1200℃；

- 升溫速率：150℃/秒；

- 降溫速度：200℃/分鐘 (1000℃-- 400℃)；

- 溫控均勻性：  1.5%設(shè)定溫度；

- 加熱方式：紅外鹵素?zé)簦敳考暗撞考訜?，也可單?dú)控制加熱

- 燈管數(shù)量及功率：18支/20KW

- 腔體冷卻：水冷方式，獨(dú)立冷卻源

- 襯底冷卻：氮?dú)獯祾撸?/p>

- 工藝氣路：MFC控制，最多4路 (氮?dú)?、氬氣、氧氣、氫氮混合氣?；