核心提示：光刻工藝技術(shù)基礎(chǔ)-涂膠涂膠1.靜態(tài)滴膠2.旋轉(zhuǎn)鋪開(kāi)3.甩掉多余的膠4.溶劑揮發(fā)涂膠過(guò)程勻膠后在襯底邊緣處會(huì)形成較厚的邊（邊珠效 應(yīng)，這會(huì)影響到光刻的圖形精度）。可在涂膠 過(guò)程中加入去邊及背噴工藝（ PGMEA、 EGMEA 為常用去邊液）。去邊過(guò)程涂膠成膜過(guò)程中各種案例分析1.表面出現(xiàn)氣泡滴膠時(shí)，膠液中混有氣泡噴嘴有問(wèn)題或者噴嘴不規(guī)整2.放射狀條紋膠液噴射速度過(guò)高，設(shè)備排氣速度過(guò)高滴膠過(guò)后靜止時(shí)間過(guò)長(zhǎng)勻膠轉(zhuǎn)速或者加速度設(shè)置過(guò)高基片前處理不到位有顆粒殘留或者膠液中有顆粒3.中心漩渦圖案設(shè)備排氣速度過(guò)高滴膠時(shí)