納米微米壓痕劃痕測試儀；近場掃描光學顯微鏡；接觸角測量儀；表面張力儀；LB膜分析儀；開爾文探針系統(tǒng)(功函數(shù)測量)；表面等離子共振譜儀(SPR)；輪廓儀；摩擦計；(顯微)硬度計；磁控濺射儀；熱蒸發(fā)電子束蒸發(fā)沉積；等離子增強氣相沉積系統(tǒng)(PECVD)；原子層沉積系統(tǒng)(ALD)；快速退火爐；霍爾效應儀；探針臺；光致發(fā)光掃描儀(PL)；橢偏儀；膜厚儀；氣溶膠發(fā)生器，粒徑譜儀，稀釋器；濾料測試系統(tǒng)；煙霧發(fā)生器；空氣示蹤器；zeta電位分析儀；內(nèi)表面粗糙度測量儀；(氙燈)光反應器；太陽模擬器；高壓反應釜；

 科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd )為多家國外高科技儀器廠家在中國地區(qū)的代理?？祁９疽回灡小赫\信』、『品質(zhì)』、『服務』、『創(chuàng)新』的企業(yè)文化，為廣大中國用戶提供儀器、設備，最周到的技術、服務和完美的整體解決方案。在科技日新月異、國力飛速發(fā)展的中國，納米科學研究、薄膜材料(包括半導體)生長和表征、表面材料物性分析、生物藥物開發(fā)、有機高分子合成等等領域，都需要與歐美發(fā)達國家完全接軌的儀器設備平臺來實現(xiàn)?？祁ＴO備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。
      科睿設備有限公司(Cross-Tech Equipment Co.,Ltd)總部設在中國香港，在中國上海設立了分公司，在國內(nèi)多個城市設立了辦事處或維修站，旨在為客戶提供全方位的產(chǎn)品和服務。2010年，科睿設備有限公司在上海設立備品倉庫及維修中心，同時提供在大陸的各項技術服務和后期的維修保障服務，我們擁有專業(yè)的應用維修人員，并且都曾到國外廠家進行了專門的培訓。上海配備了多種維修部件，能使我們的服務更加快捷和方便。我們承諾24小時電話響應，72小時內(nèi)趕到現(xiàn)場維修。以利于更好、更快的為中國大陸服務！ 
      因為信任,所以理解.我們理解用戶的困難和需求。我們已經(jīng)為國內(nèi)眾多科研院所和大學根據(jù)用戶的要求配制和提供了上百套系統(tǒng)，主要用戶包括：中科院物理所，中科院半導體所，中科院大連化學物理研究所，國家納米中心，上海納米中心，北京大學，清華大學，中國科技大學，南京大學，復旦大學，上海交通大學，華東理工大學，浙江大學，中山大學，西安交通大學，四川大學，中國工程物理研究院，香港大學，香港城市大學，香港中文大學，香港科技大學等。

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)

電子束蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)
（E-Beam Evaporator System）
儀器介紹:
美國專業(yè)的制造商，擁有20多年豐富的經(jīng)驗在：電子束蒸發(fā)設備、磁控濺射設備、熱蒸發(fā)設備等。有以下功能模式：
electron beam evaporation， 電子束蒸發(fā)；
resistive evaporation，熱阻蒸發(fā)；
ion beam assisted deposition (IBAD)， 離子束輔助蒸發(fā)鍍膜；
effusion cell，瀉流源。


技術參數(shù)：
Vacuum Chamber: 304不銹鋼圓柱形腔體，標準直徑有18英寸和24英寸   scaled to match the specific application；
Pumping: 分子泵或冷凝泵；
Load Lock: 手動傳片或自動傳片,適合各種形狀尺寸的小片到200mm大的圓片，高真空背景傳遞；
Process Control: PC / PLC自動控制界面，菜單控制，數(shù)據(jù)獲取和遠程控制 ；
In-Situ Monitoring Control: QCM膜厚監(jiān)控，光學膜厚監(jiān)控；
RGA殘余氣體分析；
Substrate Fixture: 單片，多片，行星式襯底夾具；
Substrate Holders: 可加熱，冷卻，偏壓，旋轉(zhuǎn)；
Ion Source: 襯底預清洗，納米表面改性。

Deposition Techniques:
Magnetron Sputtering  RF, DC, or Pulsed-DC，具有射頻濺射，直流濺射，脈沖直流濺射；
Electron Beam Evaporation，電子束蒸發(fā)；
Thermal Evaporation，熱蒸發(fā)；
Organic Evaporation for OLED/ PLED and Organic Electronics，有機蒸發(fā)（用于OLED/ PLED和有機電子）；
Glancing Angle Depostion (GLAD),傾斜角沉積
Cathodic Arc Plasma Deposition,陰極等離子體輔助沉積。