測(cè)量顯微鏡儀器的分辨率-測(cè)量形狀、尺寸和表面質(zhì)量

實(shí)際接觸面積的測(cè)定方法和測(cè)量?jī)x器

在實(shí)際的研究工作和工藝過(guò)程中，常用三種方法測(cè)定實(shí)際接

觸面積，即信息法、光測(cè)法和電測(cè)法。
  采用第品種方法時(shí)，要用染料、放射性物質(zhì)以及金屬
箔和細(xì)絲作為實(shí)際接觸的信息物。在接觸過(guò)程中，由于受
力的作用，信息物的形狀、尺寸和表面質(zhì)量發(fā)生變化或者在所研
究的表面上留下痕跡，據(jù)以判斷實(shí)際接觸區(qū)的形狀和尺寸。

  這種方法的分辨率和可靠性主要取決于信息物的層厚。它的
厚度應(yīng)為表面不平度高度的幾分之一。否則，不平度將被信息物
所填滿，而只有表面上高度超過(guò)信息層厚處的接觸區(qū)才顯示出
來(lái)。所用的信息物層厚為0.01---50微米。

  在第一種方法中，用放射性同位素量有發(fā)展前途，如使用得
當(dāng)，它在尋找實(shí)際接觸點(diǎn)時(shí)能保證有很高的分辨率和可靠性。

  光測(cè)法的基礎(chǔ)是:

  當(dāng)所研究的表面與透明材料的試樣接觸時(shí)，接觸點(diǎn)上全內(nèi)反
射遭到破壞的現(xiàn)象;
  當(dāng)光線從一種介質(zhì)轉(zhuǎn)到另一種拆射系數(shù)不同的介質(zhì)時(shí)光的反

射和散射現(xiàn)象;

將光譜上純的電弧碳
素電極放在真空室中進(jìn)行蒸發(fā)，可獲得碳膜。用這種方法涂致的
膜具有很薄的非晶結(jié)構(gòu)，能精確地復(fù)現(xiàn)十分鮮明的表面形貌。

  用這種方法很易用肉眼看出厚幾十埃的膜。這種方法無(wú)需復(fù)
雜的設(shè)備、具有很高的分辨率，并能測(cè)定表面上粗糙度達(dá)9 -10
級(jí)的接觸面積。

  顯影法制定的先決條件是，通過(guò)各種研究所發(fā)現(xiàn)的與金屬
物理狀態(tài)有關(guān)的金屬電勢(shì)發(fā)生某種變化。這種變化在冷作硬化時(shí)
非常明顯。經(jīng)冷加工的金屬通常要比退火狀態(tài)稍差。經(jīng)過(guò)不均勻

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