基于光學(xué)原理粗糙度測量光切式顯微鏡0.03-0.05微米

另外還有一些結(jié)構(gòu)原理有所不同的干涉顯微鏡，而有的干涉
顯微鏡測量的可能性也不同。例如，為了擴大測量表面不平度的
量限，研制了浸沉印模式干涉儀。

它可測量比較大的不平度，其原理是從被測表面取下不平度印模，
然后用干涉顯微鏡觀測。

為了取得印模，要用電影膠片(硝化纖維的)。膠片
上涂以丙酮，并壓向被測表面。獲得的印模放在充有液體(浸沉
液體)的盒子里。盒子安裝在干涉顯微鏡的一條光路內(nèi)，像用干涉
顯微鏡一樣，測出它的表面不平度。用這種儀器可以測量任何反射
系數(shù)的表面，其量限從0．1到10μm

  我們上面介紹的幾種儀器并不是基于光學(xué)原理的全部不接觸
測量器具，而只是常用的幾種。

用于與光波波長直接比較測量，也可用于與量塊比較測量，
其基本光學(xué)系統(tǒng)也是邁克爾遜系統(tǒng)。

  在這種干涉儀上，用光波半波波長數(shù)測量量塊尺寸和平面x1廣
行性偏差。為此，必須先在某種儀器上測量誤差為士1μm的被測
量塊的尺寸，而后在干涉儀上用不少于三條譜線的光干涉條紋確
定其數(shù)值。因為這些譜線的波長是已知的，所以得到的半波長復(fù)
合值可以確定量塊的尺寸。
  非接觸式干涉儀的特性：測量量塊尺寸的范圍為O～lOOmm，
測量誤差不大于0．1個條紋，即在0．03-0．05μm之間。
測量顯微鏡
  測量顯微鏡是一種非接觸式光學(xué)儀器，用來觀察放大了的零
件輪廓，用直角坐標(biāo)或極坐標(biāo)測量這些輪廓各要素的線值和角
度。在這種儀器上，只能用與其直線刻度尺和角度刻度尺直接
比較的方法進(jìn)行測量(和量塊相比較的方法在這里實際上是不用
的)。

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