應(yīng)用電子顯微鏡透射鑒定電鍍膜孔隙-孔隙直徑測(cè)量

 用一種測(cè)定微孔隙的方法
來研究膜形成的機(jī)理。他們?cè)诶碚撚^點(diǎn)上認(rèn)為每個(gè)微孔隙形成了
氧化物細(xì)胞的中心，并從下面的此較加以證實(shí)，即以電子顯微鏡
所得到的細(xì)胞底面花樣(采用陽極氧化膜截面的聚苯乙烯印痕和
硅土復(fù)膜)與同樣陽極氧化條件下在電子顯微鏡中用透射法檢驗(yàn)
膜本身所得到的孔隙花樣進(jìn)行此較。所有細(xì)胞大小可從細(xì)胞底面
花樣的顯微相片直接測(cè)定

  假定孔隙直徑恒定不變，描繪細(xì)胞大小與電壓的關(guān)系曲線，

粘附力
  氧化膜的粘附力一般較電鍍屢好得多，但垂直于表面方向的
膜是弱的，即膜在滾軋方向易于橫斷破裂。當(dāng)彎曲時(shí)膜成平行線
破裂，但并不像電鍍層那樣剁落。雖然如此，當(dāng)陽極氧化的電流
中斷后，仍需謹(jǐn)慎地不能讓陽極氧化過的工作停留在電解液中，
因?yàn)檫@樣會(huì)使氧化膜疏松而減低粘附力。一般，膜的粘附力隨溫
度的升高、酸度、采用直流電、電流密度的降低和處理時(shí)間的延
長(zhǎng)而增加。

  硬度和耐磨性
  氧化膜本身非常之硬，但它對(duì)于增加金屬本身的有效硬度還
嫌太薄。它能抵抗表面刮痕，因而可保護(hù)拋光表面的外觀和反射
性，但它不能保護(hù)金屬經(jīng)受強(qiáng)的壓力。氧化膜的硬度對(duì)鉻、玻璃
和鋼的比較已列于表7，對(duì)氧化膜不同膜層的硬度差別也已表
達(dá)。
  一般，膜層的硬度隨電解液溫度的降低、酸濃度的減小、電
解液浸蝕性的減弱而增加，并隨合金結(jié)構(gòu)均勻性的增加和電流密
度的增加而增加。此外，用直流電產(chǎn)生的膜較用交流的更硬。

通常用來測(cè)定硬度的布氏、維氏等試驗(yàn)方法都不能應(yīng)用于陽
極氧化膜，因?yàn)樗鼈兊玫降氖腔w金屬的硬度。洛氏劃痕法或莫
氏所改進(jìn)的方法(他用金剛石尖頭)也并不完全滿意。在這些方
法中，試樣都在加負(fù)荷的尖頭下作水平移動(dòng)，從劃痕的寬度來計(jì)
算硬度。由此得到的結(jié)果都僅是近似值，基體金屬的不同硬度或
整個(gè)膜本身所具的不同硬度均未考慮在內(nèi)。

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