光切顯微鏡測量或光學(xué)截面表面粗糙度測量儀

  對于不透明覆層厚度則應(yīng)采吊有損測量。在這兩種測量
方法中，由于儀器的原因或使用不當(dāng)，都可能影響測量結(jié)果的準(zhǔn)
確度．對于有損測量，若試樣制備的質(zhì)量不佳，則乏對測量結(jié)果
產(chǎn)生影響。下面就有關(guān)影響因素加以敘述。
  (1)表面粗糙度光學(xué)法測量覆層厚度一般都非常薄，因
而要求基體表面的加工粗糙度很低，一定要非常平滑。如果覆層和
基體表面粗糙，或者覆層和基體表面相對于覆層厚度是粗糙的，
9lb在觀察視場內(nèi)，將由于覆層和基體的界面不規(guī)則，而不可能進(jìn)
行準(zhǔn)確的測量。
  (2)斷面不正  當(dāng)拋磨試樣斷面或加工臺階斷面不垂直，
在測量厚度時(shí)，可能會產(chǎn)生誤差。在斷面顯微鏡測量中，一般每
傾斜10°由此導(dǎo)致的誤差達(dá)1．5％。
  (3)覆層變形  在斷面顯微鏡和掃描電子顯微鏡測量中，
如對試樣的鑲嵌溫度過高或壓力過大，都有可能造成試樣的覆層
變形；對軟覆層或低溫易熔化覆層進(jìn)行斷面拋磨，以及對脆性材
料過分砂磨，都可能造成覆罷變形，將會帶來測量誤差。
  (4)覆層邊緣磨圓  覆層斷面邊緣如被磨圓，則不成平
面，這樣在顯微鏡觀察就很難測出真實(shí)厚度。在試樣鑲嵌、研
磨、拋光、浸蝕等操作中，如操作不適當(dāng)都有可能導(dǎo)致邊緣被磨
圓．通常，在拋磨試樣上加一層保護(hù)層，則可以防止邊緣磨圓．
 (5)浸蝕：當(dāng)浸蝕試樣條件最佳，將會在兩種金屬界面形
成清晰的狹窄邊界線。如果條件不佳，則邊界線寬，也不清晰，
因而不可能準(zhǔn)確地測量。
  (6)表面沾污  當(dāng)拋光試樣斷面留有沾污的金屬，特別是
在鉛、銦、金等軟金屬界面情況下容易發(fā)生，以致界面不易準(zhǔn)確
地測量。對此，一般采取多次拋光和多次測量的方法。
  (7)對比度差當(dāng)兩種金屬原子序數(shù)十分相近，如光亮鎳
和半光亮鎳，在掃描電子顯微鏡測量時(shí)，它們可見對比度差，除
非浸蝕邊界很清晰，以及采用適當(dāng)?shù)臏y試方法，否則是難以識
別的．

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