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KRI 霍爾離子源 eH 400
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計提供高離子電流,霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng),可以控制較低的離子能量, 適用于像塑膠鏡片等脆弱的材料和 III-V 族半導(dǎo)體材料 (III-V compound). 典型應(yīng)用離子輔助沉積工藝. 原位預(yù)清洗和低能離子刻蝕工藝.
KRI 霍爾離子源 eH 400 技術(shù)參數(shù):
KRI 霍爾離子源 eH 400 應(yīng)用領(lǐng)域：
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD 其他產(chǎn)品
電話：+86-21-5046-3511
郵箱：ec@hakuto-vacuum.cn
地址：上海市浦東新區(qū)
新金橋路1888號36號樓7樓702室
201206
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