![]() 微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)
那諾中國(guó)有限公司
價(jià)格：￥1元
生產(chǎn)地：美國(guó)品牌：美國(guó)那諾-馬斯特
型號(hào)：公司傳真：86-021-31663529
移動(dòng)電話：18916157635更新時(shí)間：2017-09-21
ALD，PECVD，RIE，磁控濺射，熱蒸鍍，電子束，離子束，熱真空試驗(yàn)，晶圓清洗機(jī)，PA-MOCVD
那諾中國(guó)提供美國(guó)那諾-馬斯特薄膜工藝加工設(shè)備、德國(guó)阿爾法微波等離子清洗去膠機(jī)等。
微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)概述： NPE-4000能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達(dá)12"直徑的基片上.該系統(tǒng)采用淋浴頭電極或中空陰極射頻等離子源來產(chǎn)生等離子，具有分形氣流分布的優(yōu)勢(shì).樣品臺(tái)可以通過RF或脈沖DC產(chǎn)生偏壓。并可以支持加熱和循環(huán)冷卻水的冷卻.使用250l/sec渦輪分子泵及3.5 cfm的機(jī)械泵，腔體可以達(dá)到低至10-7 torr的真空。標(biāo)準(zhǔn)配置包含1路惰性氣體、3路活性氣體管路和4個(gè)MFC.帶有*氣體分布系統(tǒng)的平面中空陰極等離子源使得系統(tǒng)可以滿足廣大范圍的要求，無論是等離子強(qiáng)度、均勻度，還是要分別激活某些活性組份，這樣系統(tǒng)可以覆蓋zui廣的可能性來獲得各種沉積參數(shù)。 產(chǎn)品特點(diǎn)： 不銹鋼或鋁制腔體 極限真空可達(dá)10-7Torr RF淋浴頭，HCD或微波等離子源可選 高達(dá)12"(300mm)直徑的樣品臺(tái) RF射頻偏壓樣品臺(tái) 水冷樣品臺(tái) 可加熱到800 C樣品臺(tái) 加熱的氣體管路 加熱的液體傳送單元 抗腐蝕的渦輪分子泵組 1路載體氣體以及3路反應(yīng)氣體，帶MFC zui大可支持8路MFC，帶排放箱及氣體閥組 預(yù)真空鎖及自動(dòng)上下載腔門 氣動(dòng)控制閥 基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制 菜單驅(qū)動(dòng)，4級(jí)密碼訪問保護(hù) 完整的安全聯(lián)鎖產(chǎn)品應(yīng)用： 等離子誘導(dǎo)表面改性 等離子清洗 等離子聚合 SiO2, Si3N4, a-Si, DLC以及其它薄膜 CNT選擇性生長(zhǎng)設(shè)備型號(hào)： NPE-4000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的獨(dú)立系統(tǒng) NPE-3500：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的緊湊型獨(dú)立系統(tǒng) NPE-3000：基于PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制的臺(tái)式系統(tǒng) NRP-4000：RIE/PECVD雙系統(tǒng) NSP-4000：濺射/PECVD雙系統(tǒng)
|
產(chǎn)品分類