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價格：面議
生產(chǎn)地：品牌：
型號：EM13公司傳真：86-010-80885973
移動電話：13911901157更新時間：2015-12-25
公司成立于2004年，在同行業(yè)中Z早獲得高新技術(shù)企業(yè)，擁有多項，其中 太陽能電池測試系統(tǒng) 、 光譜儀 、 精密位移臺 三大系列產(chǎn)品被市科委、市發(fā)改委等5部門評為 北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品 ，并列入政府采購目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。
賽凡擁有兩大核心技術(shù)：光譜測試技術(shù)，精密運動控制技術(shù)
主要產(chǎn)品系列：太陽能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測試儀，太陽能電池I/V性能測試儀，太陽模擬器，橢偏儀，CCD光電性能測試儀，熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測器光譜測試系統(tǒng)，光柵光譜儀，CCD光譜儀，科研級光源，光電探測器，數(shù)據(jù)采集器，精密定位系統(tǒng)，電動/手動精密位移臺，光具座，光學(xué)平臺等。
公司自成立以來，始終秉持質(zhì)量率先，滿足用戶的經(jīng)營理念，在注重提升自身研發(fā)能力的同時，和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系，共同創(chuàng)建光電實驗室，保證產(chǎn)品的領(lǐng)先性和適用性。其中太陽能光伏實驗室，為各類太陽能電池（單晶硅，多晶硅，薄膜電池，染料敏化電池等）的光譜響應(yīng)測試及膜厚控制提供了完整解決方案。
我們始終如一，用心為您提供良好完整的解決方案，為您提供專業(yè)高效的技術(shù)支持，為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù)，我們的追求就是讓您始終滿意，始終信任，始終選擇 ！
EM13LD 系列是采用量拓科技先進(jìn)的測量技術(shù)，針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。
EM13LD 系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源，可在單入射角度或多入射角度下對樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測量?？捎糜跍y量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k； 也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜 的絕對厚度測量。
EM13LD系列采用了量拓科技多項技術(shù)。
特點：次納米的高靈敏度
國際先進(jìn)的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量極薄納米薄膜，膜厚精度可達(dá)到0.5nm。
3秒的快速測量
國際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計，在保證精度和準(zhǔn)確度的同時，可在3秒內(nèi)快速完成一次測量，可對納米膜層生長過程進(jìn)行測量。
簡單方便的儀器操作
用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程，數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行高級測量設(shè)置。
應(yīng)用：EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k；可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k；可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等?？蓱?yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。技術(shù)指標(biāo):
項目
技術(shù)指標(biāo)
儀器型號
EM13 LD/635 (或其它選定波長)
激光波長
635 nm (或其它選定波長，高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器)
膜厚測量重復(fù)性（1）
0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
折射率測量重復(fù)性（1）
5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層)
單次測量時間
與測量設(shè)置相關(guān)，典型3s
zui大的膜層范圍
透明薄膜可達(dá)1000nm
吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān)
光學(xué)結(jié)構(gòu)
PSCA（ 在0 或180 附近時也具有極高的準(zhǔn)確度）
激光光束直徑
2mm
入射角度
40 -90 可手動調(diào)節(jié)，步進(jìn)5
樣品方位調(diào)整
Z軸高度調(diào)節(jié)： 6.5mm
二維俯仰調(diào)節(jié)： 4
樣品對準(zhǔn)：光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對準(zhǔn)系統(tǒng)
樣品臺尺寸
平面樣品直徑可達(dá) 170mm
zui大外形尺寸
887 x 332 x 552mm (入射角為90 時)
儀器重量（凈重）
25Kg
選配件
水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺，真空吸附泵
軟件(ETEM)
* 中英文界面可選
* 多個預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用
* 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合
* 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出
* 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持
注：(1)測量重復(fù)性：是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。
性能保證:穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、先進(jìn)的采樣方法，保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng)，保證了快速、高精度的樣品方位對準(zhǔn)穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計、可靠的樣品方位對準(zhǔn)，結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù)，保證了快速、穩(wěn)定測量分立式的多入射角選擇，可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和絕對厚度的測量一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計，使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高，并節(jié)省空間一鍵式軟件設(shè)計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫，方便用戶使用