EM13 LD系列多入射角激光橢偏儀
北京賽凡光電儀器有限公司
價格:面議
生產(chǎn)地:品牌:
型號:EM13公司傳真:86-010-80885973
移動電話:13911901157更新時間:2015-12-25
公司成立于2004年,在同行業(yè)中Z早獲得高新技術(shù)企業(yè),擁有多項,其中 太陽能電池測試系統(tǒng) 、 光譜儀 、 精密位移臺 三大系列產(chǎn)品被市科委、市發(fā)改委等5部門評為 北京市自主創(chuàng)新產(chǎn)品 ,并列入政府采購目錄。公司于2009年9月取得ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證。 賽凡擁有兩大核心技術(shù):光譜測試技術(shù),精密運(yùn)動控制技術(shù) 主要產(chǎn)品系列:太陽能電池光譜響應(yīng)/IPCE/QE測試儀,太陽能電池I/V性能測試儀,太陽模擬器,橢偏儀,CCD光電性能測試儀,熒光/拉曼/發(fā)射/透反吸/探測器光譜測試系統(tǒng),光柵光譜儀,CCD光譜儀,科研級光源,光電探測器,數(shù)據(jù)采集器,精密定位系統(tǒng),電動/手動精密位移臺,光具座,光學(xué)平臺等。 公司自成立以來,始終秉持質(zhì)量率先,滿足用戶的經(jīng)營理念,在注重提升自身研發(fā)能力的同時,和多家科研院所保持緊密合作關(guān)系,共同創(chuàng)建光電實驗室,保證產(chǎn)品的領(lǐng)先性和適用性。其中太陽能光伏實驗室,為各類太陽能電池(單晶硅,多晶硅,薄膜電池,染料敏化電池等)的光譜響應(yīng)測試及膜厚控制提供了完整解決方案。 我們始終如一,用心為您提供良好完整的解決方案,為您提供專業(yè)高效的技術(shù)支持,為您提供快速響應(yīng)的售后服務(wù),我們的追求就是讓您始終滿意,始終信任,始終選擇 !
EM13LD 系列是采用量拓科技先進(jìn)的測量技術(shù),針對普通精度需求的研發(fā)和質(zhì)量控制領(lǐng)域推出的多入射角激光橢偏儀。 EM13LD 系列采用半導(dǎo)體激光器作為光源,可在單入射角度或多入射角度下對樣品進(jìn)行準(zhǔn)確測量。可用于測量單層或多層納米薄膜樣品的膜層厚度、折射率n和消光系數(shù)k; 也可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;亦可用于實時測量納米薄膜動態(tài)生長中膜層的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。多入射角度設(shè)計實現(xiàn)了納米薄膜 的絕對厚度測量。 EM13LD系列采用了量拓科技多項技術(shù)。 特點:次納米的高靈敏度 國際先進(jìn)的采樣方法、穩(wěn)定的核心器件、高質(zhì)量的制造工藝實現(xiàn)并保證了能夠測量極薄納米薄膜,膜厚精度可達(dá)到0.5nm。 3秒的快速測量 國際水準(zhǔn)的儀器設(shè)計,在保證精度和準(zhǔn)確度的同時,可在3秒內(nèi)快速完成一次測量,可對納米膜層生長過程進(jìn)行測量。 簡單方便的儀器操作 用戶只需一個按鈕即可完成復(fù)雜的材料測量和分析過程,數(shù)據(jù)一鍵導(dǎo)出。豐富的模型庫、材料庫方便用戶進(jìn)行高級測量設(shè)置。 應(yīng)用:EM13LD系列適合于普通精度要求的科研和工業(yè)環(huán)境中的新品研發(fā)或質(zhì)量控制。EM13LD系列可用于測量單層或多層納米薄膜層構(gòu)樣品的薄膜厚度、折射率n及消光系數(shù)k;可用于同時測量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k;可用于實時測量快速變化的納米薄膜的厚度、折射率n和消光系數(shù)k。EM13LD可應(yīng)用的納米薄膜領(lǐng)域包括:微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁質(zhì)存儲、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。可應(yīng)用的塊狀材料領(lǐng)域包括:固體(金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等),或液體(純凈物或混合物)。技術(shù)指標(biāo): 項目 技術(shù)指標(biāo) 儀器型號 EM13 LD/635 (或其它選定波長) 激光波長 635 nm (或其它選定波長,高穩(wěn)定半導(dǎo)體激光器) 膜厚測量重復(fù)性(1) 0.5nm (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) 折射率測量重復(fù)性(1) 5x10-3 (對于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) 單次測量時間 與測量設(shè)置相關(guān),典型3s zui大的膜層范圍 透明薄膜可達(dá)1000nm 吸收薄膜則與材料性質(zhì)相關(guān) 光學(xué)結(jié)構(gòu) PSCA( 在0 或180 附近時也具有極高的準(zhǔn)確度) 激光光束直徑 2mm 入射角度 40 -90 可手動調(diào)節(jié),步進(jìn)5 樣品方位調(diào)整 Z軸高度調(diào)節(jié): 6.5mm 二維俯仰調(diào)節(jié): 4 樣品對準(zhǔn):光學(xué)自準(zhǔn)直和顯微對準(zhǔn)系統(tǒng) 樣品臺尺寸 平面樣品直徑可達(dá) 170mm zui大外形尺寸 887 x 332 x 552mm (入射角為90 時) 儀器重量(凈重) 25Kg 選配件 水平XY軸調(diào)節(jié)平移臺,真空吸附泵 軟件(ETEM) * 中英文界面可選 * 多個預(yù)設(shè)項目供快捷操作使用 * 單角度測量/多角度測量操作和數(shù)據(jù)擬合 * 方便的數(shù)據(jù)顯示、編輯和輸出 * 豐富的模型和材料數(shù)據(jù)庫支持 注:(1)測量重復(fù)性:是指對標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點、同一條件下連續(xù)測量30次所計算的標(biāo)準(zhǔn)差。 性能保證:穩(wěn)定性的半導(dǎo)體激光光源、先進(jìn)的采樣方法,保證了穩(wěn)定性和準(zhǔn)確度高精度的光學(xué)自準(zhǔn)直系統(tǒng),保證了快速、高精度的樣品方位對準(zhǔn)穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)設(shè)計、可靠的樣品方位對準(zhǔn),結(jié)合先進(jìn)的采樣技術(shù),保證了快速、穩(wěn)定測量分立式的多入射角選擇,可應(yīng)用于復(fù)雜樣品的折射率和絕對厚度的測量一體化集成式的儀器結(jié)構(gòu)設(shè)計,使得系統(tǒng)操作簡單、整體穩(wěn)定性提高,并節(jié)省空間一鍵式軟件設(shè)計以及豐富的物理模型庫和材料數(shù)據(jù)庫,方便用戶使用
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