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NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng) NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統(tǒng)概述:原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術,具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD
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2025-01-23 |
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NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備 NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備概述:原子層沉積是一項沉積薄膜的重要技術,具有廣泛的應用。ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結(jié)構(gòu)的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅(qū)體流量的隨意性不會帶來影響,所以在ALD原子層沉積中有序、自限制的表面反應將會帶來非統(tǒng)計的沉積。這使得ALD
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2025-01-23 |
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