| 圖片 |
標(biāo) 題 |
更新時間 |
 |
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)
SWC-3000兆聲晶圓（掩模版）清洗機(jī)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的
|
2025-01-23 |
 |
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)
SWC-4000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情
|
2025-01-23 |
 |
SWC-5000全自動兆聲硅片清洗機(jī)
SWC-5000全自動兆聲硅片清洗機(jī)：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于先進(jìn)的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下
|
2025-01-23 |
 |
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片
|
2025-01-23 |
 |
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)
LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)概述：兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。NANO-MASTER提供兆聲單晶圓掩模清洗(SWC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗。可以適用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基
|
2025-01-23 |
 |
NPC-4000（A）全自動等離子去膠機(jī)（刻蝕機(jī)）
NPC-4000(A)全自動等離子去膠機(jī)(刻蝕機(jī))概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
|
2025-01-23 |
 |
NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機(jī)
NPC-3500（A）全自動plasma等離子清洗機(jī)概述：NANO-MASTER等離子刻蝕和清洗系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用，從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制，可以配套不同的等離子源，加熱或不加熱基片夾具,具有*的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持
|
2025-01-23 |
 |
NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)
NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品概述：該系統(tǒng)為全自動上下載片，并且通過計(jì)算機(jī)全自動實(shí)現(xiàn)工藝控制的緊湊型獨(dú)立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng)，系統(tǒng)具有結(jié)構(gòu)緊湊、功能強(qiáng)大、自動化程度高、模塊化設(shè)計(jì)易于維護(hù)、低成本的優(yōu)勢。NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)產(chǎn)品特點(diǎn)：低成本帶預(yù)真空鎖，自動上下載片離子束：高達(dá)2KV/
|
2025-01-23 |
產(chǎn)品分類
